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基于潮解作用的KDP晶体抛光技术的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-14页
第1章 绪论第14-29页
   ·课题背景及研究的目的和意义第14-15页
   ·KDP 晶体超精密加工技术的研究现状第15-24页
     ·KDP 晶体单点金刚石切削加工技术第15-22页
     ·KDP 晶体超精密磨削技术第22页
     ·KDP 晶体抛光技术第22-24页
   ·新型抛光技术简介第24-27页
     ·弹性发射加工第25页
     ·化学机械抛光第25页
     ·气囊抛光第25页
     ·等离子体辅助抛光第25-26页
     ·无磨料低温抛光第26页
     ·离子束抛光第26页
     ·电流变抛光第26页
     ·超声波磁流变复合抛光第26-27页
     ·磁射流抛光第27页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光技术的提出第27页
   ·论文的主要研究内容第27-29页
第2章 基于潮解作用的KDP晶体抛光材料去除机制的研究第29-44页
   ·引言第29页
   ·KDP 晶体概述第29-32页
     ·KDP 晶体的结构第29-31页
     ·KDP 晶体的性质第31-32页
     ·KDP 晶体的发展历程第32页
   ·潮解与溶解现象简介第32-35页
     ·潮解现象简介第32-33页
     ·溶解现象简介第33-35页
   ·KDP 晶体表面溶解实验第35-36页
   ·基于潮解作用的KDP晶体抛光材料去除机制第36-37页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光实验第37-43页
     ·抛光原理第37-38页
     ·抛光过程第38-41页
     ·抛光实验第41-43页
   ·本章小结第43-44页
第3章 基于潮解作用的KDP 晶体抛光中溶解作用控制技术的研究第44-60页
   ·引言第44页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光中溶解作用的控制技术第44页
   ·抛光液的研究第44-53页
     ·对抛光液性能的要求第45-46页
     ·抛光液组分的选取第46-47页
     ·表面活性剂的选取第47-53页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光实验第53-59页
   ·本章小结第59-60页
第4章 基于潮解作用的KDP晶体抛光的工艺实验研究第60-71页
   ·引言第60页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光中的变量第60页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光中输入变量对材料去除的影响第60-65页
     ·KDP 晶体表面初始状况对材料去除率的影响第60-62页
     ·抛光时间对材料去除的影响第62-64页
     ·抛光盘转数对材料去除率的影响第64-65页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光中输入变量对表面粗糙度的影响第65-69页
     ·KDP 晶体表面初始状况对表面粗糙度的影响第65-66页
     ·抛光时间对表面粗糙度的影响第66-67页
     ·抛光盘转数对表面粗糙度的影响第67-68页
     ·抛光压力对表面粗糙度的影响第68-69页
   ·本章小结第69-71页
第5章 基于潮解作用的KDP晶体抛光过程的理论研究第71-99页
   ·引言第71页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光过程的运动学分析第71-73页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光中相对运动轨迹的研究第73-87页
     ·r 对运动轨迹的影响第74-78页
     ·l 对运动轨迹的影响第78-82页
     ·n_p 对运动轨迹的影响第82-85页
     ·n_w 对运动轨迹的影响第85-87页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光中的相对速度分析第87-93页
     ·r 对相对速度的影响第88-89页
     ·l 对相对速度的影响第89-90页
     ·n_p 对相对速度的影响第90-92页
     ·n_w 对相对速度的影响第92-93页
   ·基于潮解作用的KDP 晶体抛光中抛光行程的研究第93-97页
     ·r 对抛光行程的影响第93-94页
     ·l 对抛光行程的影响第94-95页
     ·n_p 对抛光行程的影响第95-96页
     ·n_w 对抛光行程的影响第96-97页
   ·本章小结第97-99页
结论第99-101页
参考文献第101-109页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第109-111页
致谢第111-112页
个人简历第112页

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