| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第15-35页 |
| 1.1 研究背景 | 第15-16页 |
| 1.2 国内外研究进展 | 第16-33页 |
| 1.2.1 角向偏振光 | 第16-23页 |
| 1.2.2 亚波长角向偏振光栅 | 第23-25页 |
| 1.2.3 亚波长光栅的设计理论及典型结构 | 第25-33页 |
| 1.3 论文的主要研究内容和结构安排 | 第33-35页 |
| 1.3.1 论文的主要研究内容 | 第33-34页 |
| 1.3.2 论文结构安排 | 第34-35页 |
| 第2章 亚波长光栅分析方法 | 第35-47页 |
| 2.1 引言 | 第35页 |
| 2.2 亚波长光栅偏振特性 | 第35-38页 |
| 2.2.1 亚波长介质光栅偏振选择特性 | 第36-37页 |
| 2.2.2 亚波长金属光栅偏振选择特性 | 第37-38页 |
| 2.3 严格耦合波分析 | 第38-44页 |
| 2.3.1 单层矩形光栅模型 | 第39-42页 |
| 2.3.2 多层梯形光栅模型 | 第42-44页 |
| 2.4 粒子群算法 | 第44-45页 |
| 2.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第3章 亚波长角向偏振金属光栅设计 | 第47-73页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 光栅的热效应分析 | 第48-50页 |
| 3.2.1 导热性与光栅材料的选择 | 第48-49页 |
| 3.2.2 热膨胀对器件形变的影响 | 第49-50页 |
| 3.3 基于粒子群的光栅参数优化 | 第50-53页 |
| 3.3.1 PSO基本流程 | 第51-52页 |
| 3.3.2 适应度的设定 | 第52页 |
| 3.3.3 速度设定 | 第52-53页 |
| 3.4 设计结果与分析 | 第53-63页 |
| 3.4.1 光谱衍射效率分析 | 第53-55页 |
| 3.4.2 加工容差分析 | 第55-59页 |
| 3.4.3 算法效率分析 | 第59-63页 |
| 3.5 设计算法的改进 | 第63-71页 |
| 3.5.1 惯性权重因子 | 第63页 |
| 3.5.2 基于粒子位置调整惯性权重的分步粒子群算法 | 第63-67页 |
| 3.5.3 收敛速度与准确性 | 第67-71页 |
| 3.6 本章小结 | 第71-73页 |
| 第4章 金属光栅的电沉积及其质量控制 | 第73-97页 |
| 4.1 引言 | 第73页 |
| 4.2 金属光栅沉积高度的控制 | 第73-83页 |
| 4.2.1 金属电沉积速率 | 第73-74页 |
| 4.2.2 金属光栅电沉积在线监测 | 第74-83页 |
| 4.3 金属光栅沉积质量的影响因素 | 第83-95页 |
| 4.3.1 金属光栅栅条表面粗糙度 | 第83-85页 |
| 4.3.2 电流密度的影响 | 第85-87页 |
| 4.3.3 引入超声的金属电沉积 | 第87-95页 |
| 4.4 本章小结 | 第95-97页 |
| 第5章 亚波长角向偏振金属光栅的制作 | 第97-111页 |
| 5.1 引言 | 第97页 |
| 5.2 光刻胶光栅的制作 | 第97-104页 |
| 5.2.1 匀胶参数的确定 | 第98-100页 |
| 5.2.2 曝光掩模版设计 | 第100-102页 |
| 5.2.3 烘胶时间、曝光显影参数的确定 | 第102-104页 |
| 5.3 Au的电沉积 | 第104-109页 |
| 5.3.1 Au电沉积系统参数 | 第104-105页 |
| 5.3.2 Au电沉积 | 第105-107页 |
| 5.3.3 后处理工艺 | 第107-109页 |
| 5.4 本章小结 | 第109-111页 |
| 第6章 总结与展望 | 第111-113页 |
| 6.1 论文工作总结 | 第111页 |
| 6.2 展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-121页 |
| 致谢 | 第121-123页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第123页 |