摘要 | 第3-4页 |
abstract | 第4页 |
第1章 文献综述 | 第8-18页 |
1.1 乙醇的性质和用途 | 第8-9页 |
1.1.1 乙醇的性质 | 第8页 |
1.1.2 乙醇的用途 | 第8-9页 |
1.2 乙醇的制备工艺 | 第9-12页 |
1.2.1 生物质发酵法 | 第9-10页 |
1.2.2 生物质合成气发酵法 | 第10-11页 |
1.2.3 乙烯水合法 | 第11页 |
1.2.4 合成气化学法 | 第11页 |
1.2.5 醋酸及醋酸酯加氢合成法 | 第11-12页 |
1.3 醋酸酯加氢的热力学 | 第12页 |
1.4 醋酸酯加氢催化剂的研究 | 第12-14页 |
1.4.1 添加助剂改性 | 第13页 |
1.4.2 载体改性 | 第13-14页 |
1.4.3 制备方法的改进 | 第14页 |
1.4.4 其他研究 | 第14页 |
1.5 分子模拟计算 | 第14-17页 |
1.5.1 分子模拟计算简述 | 第14-15页 |
1.5.2 Material Studio软件及DMol3 模块的简介 | 第15-16页 |
1.5.3 DFT在催化研究中的应用 | 第16-17页 |
1.6 本论文的主要工作 | 第17-18页 |
第2章 实验部分 | 第18-24页 |
2.1 实验药品及设备 | 第18-19页 |
2.1.1 实验药品 | 第18页 |
2.1.2 实验设备 | 第18-19页 |
2.2 催化剂的制备 | 第19-20页 |
2.3 催化剂的表征 | 第20-22页 |
2.3.1 N_2等温吸脱附分析 | 第20页 |
2.3.2 N_2O滴定分析 | 第20页 |
2.3.3 X射线衍射(XRD)分析 | 第20-21页 |
2.3.4 傅里叶变换红外光谱(FT-IR)分析 | 第21页 |
2.3.5 电感耦合等离子体光谱(ICP-AES)分析 | 第21页 |
2.3.6 程序升温还原(TPR)分析 | 第21页 |
2.3.7 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第21页 |
2.3.8 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第21-22页 |
2.4 催化剂的活性测试及其分析方法 | 第22-24页 |
第3章 In-Cu/SiO_2 催化剂性能研究 | 第24-44页 |
3.1 In_2O_3掺杂量对Cu/SiO_2 催化剂活性及物化性能的影响 | 第24-37页 |
3.1.1 不同In_2O_3含量对催化剂活性的影响 | 第24-25页 |
3.1.2 不同In_2O_3含量催化剂的N_2吸脱附性能分析 | 第25-27页 |
3.1.3 不同In_2O_3含量催化剂的N_2O滴定分析 | 第27页 |
3.1.4 不同In_2O_3含量催化剂的ICP-AES分析 | 第27-28页 |
3.1.5 不同In_2O_3含量催化剂的XRD分析 | 第28-30页 |
3.1.6 不同In_2O_3含量催化剂的TEM分析 | 第30-31页 |
3.1.7 不同In_2O_3含量催化剂的FT-IR分析 | 第31-33页 |
3.1.8 不同In_2O_3含量催化剂的TPR分析 | 第33页 |
3.1.9 不同In_2O_3含量催化剂的XPS分析 | 第33-37页 |
3.2 Cu/SiO_2和1In-Cu/SiO_2 催化剂的稳定性及物化性能表征 | 第37-43页 |
3.2.1 Cu/SiO_2和1In-Cu/SiO_2 催化剂稳定性测定 | 第37-39页 |
3.2.2 稳定性测试前后催化剂的N_2吸脱附性能变化 | 第39-40页 |
3.2.3 稳定性测试后催化剂的XRD分析 | 第40-41页 |
3.2.4 稳定性测试后催化剂的XPS分析 | 第41-43页 |
3.3 本章小结 | 第43-44页 |
第4章 关键反应物种在Cu和 Cu_2O上吸附性质的研究 | 第44-84页 |
4.1 计算模型和方法 | 第44-50页 |
4.1.1 计算模型 | 第44-47页 |
4.1.2 计算方法 | 第47-49页 |
4.1.3 吸附位点 | 第49-50页 |
4.2 关键反应物种在Cu(111)面上的吸附 | 第50-65页 |
4.2.1 醋酸甲酯在Cu(111)面上的吸附 | 第50-53页 |
4.2.2 氢气在Cu(111)面上的吸附 | 第53-55页 |
4.2.3 甲氧基在Cu(111)面上的吸附 | 第55-59页 |
4.2.4 乙酰基在Cu(111)面上的吸附 | 第59-62页 |
4.2.5 醋酸甲酯和氢气在Cu(111)面上的共吸附 | 第62-63页 |
4.2.6 甲氧基和乙酰基在Cu(111)面上的共吸附 | 第63-65页 |
4.3 关键反应物种在Cu_2O(111)面上的吸附 | 第65-79页 |
4.3.1 醋酸甲酯在Cu_2O(111)面上的吸附 | 第65-69页 |
4.3.2 氢气在Cu_2O(111)面上的吸附 | 第69-70页 |
4.3.3 甲氧基在Cu_2O(111)面上的吸附 | 第70-74页 |
4.3.4 乙酰基在Cu_2O(111)面上的吸附 | 第74-77页 |
4.3.5 醋酸甲酯和氢气在Cu_2O(111)面上的共吸附 | 第77-78页 |
4.3.6 甲氧基和乙酰基在Cu_2O(111)面上的共吸附 | 第78-79页 |
4.4 关键反应物种在Cu(111)和Cu_2O(111)面上的吸附比较 | 第79-82页 |
4.5 本章小结 | 第82-84页 |
第5章 结论与展望 | 第84-86页 |
5.1 主要结论 | 第84-85页 |
5.2 展望 | 第85-86页 |
参考文献 | 第86-92页 |
发表论文和参与科研情况说明 | 第92-94页 |
致谢 | 第94页 |