| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 光催化技术概述 | 第9-12页 |
| 1.2.1 光催化技术原理 | 第9-10页 |
| 1.2.2 光催化技术的发展历史 | 第10-12页 |
| 1.3 光催化材料的分类 | 第12页 |
| 1.4 g-C_3N_4研究综述 | 第12-20页 |
| 1.4.1 g-C_3N_4的发展历史 | 第12-14页 |
| 1.4.2 g-C_3N_4的相关性质 | 第14-15页 |
| 1.4.3 g-C_3N_4的研究现状 | 第15-20页 |
| 1.5 课题研究意义和内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 课题研究意义 | 第20-21页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验材料、仪器及分析测试方法 | 第22-26页 |
| 2.1 实验材料及仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第22页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.2 分析表征方法 | 第23-25页 |
| 2.2.1 实验分析方法 | 第23-25页 |
| 2.3 光催化产氢性能测试 | 第25-26页 |
| 2.3.1 反应溶液配制 | 第25页 |
| 2.3.2 产氢测试过程 | 第25-26页 |
| 第3章 g-C_3N_4纳米片及MoS_2异质结的制备和光催化性能研究 | 第26-38页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 实验部分 | 第26-27页 |
| 3.2.1 g-C_3N_4纳米片的制备 | 第26-27页 |
| 3.2.2 g-C_3N_4/MoS_2异质结的制备 | 第27页 |
| 3.3 g-C_3N_4纳米片最佳工艺探索 | 第27-33页 |
| 3.3.1 煅烧时间对形貌及物相的影响 | 第27-30页 |
| 3.3.2 煅烧时间对光学性质的影响 | 第30-31页 |
| 3.3.3 煅烧时间对产氢性能影响 | 第31-33页 |
| 3.4 g-C_3N_4/MoS_2异质结结构与性能 | 第33-36页 |
| 3.4.1 g-C_3N_4/MoS_2异质结形貌及物相分析 | 第33页 |
| 3.4.2 MoS_2的负载对g-C_3N_4光学性能的影响 | 第33-34页 |
| 3.4.3 MoS_2负载量对产氢性能影响 | 第34-35页 |
| 3.4.4 机理讨论 | 第35-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 氰基修饰的3D g-C_3N_4及MoS_2异质结的制备和光催化性能研究 | 第38-54页 |
| 4.1 引言 | 第38-40页 |
| 4.2 实验部分 | 第40-41页 |
| 4.2.1 氰基修饰三维g-C_3N_4的制备过程 | 第40页 |
| 4.2.2 3D g-C_3N_4-CN/MoS_2异质结的制备过程 | 第40-41页 |
| 4.3 3D g-C_3N_4-CN结构与性能 | 第41-50页 |
| 4.3.1 3D g-C_3N_4-CN的形成机理 | 第41页 |
| 4.3.2 煅烧参数对3D g-C_3N_4-CN结构与性能的影响 | 第41-43页 |
| 4.3.3 前驱体量对3D g-C_3N_4-CN形貌及物相的影响 | 第43-47页 |
| 4.3.4 前驱体量对3D g-C_3N_4-CN光学及电化学性能的影响 | 第47-49页 |
| 4.3.5 前驱体量对3D g-C_3N_4-CN产氢性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.4 3D g-C_3N_4-CN/MoS_2异质结光催化产氢性能分析 | 第50-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 全文总结 | 第54-56页 |
| 5.1 全文结论 | 第54-55页 |
| 5.2 主要创新点 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-64页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
