直流辉光放电辅助PLD沉积CN_x薄膜的组织与摩擦学特性
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 引言 | 第12-15页 |
| 1.2 氮化碳材料的起源和发展 | 第15页 |
| 1.3 氮化碳的价键结构 | 第15-16页 |
| 1.4 氮化碳的制备方法 | 第16-21页 |
| 1.4.1 高温高压法 | 第16-17页 |
| 1.4.2 离子注入法 | 第17页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| 1.4.4 电化学沉积法 | 第18-19页 |
| 1.4.5 反应溅射法 | 第19页 |
| 1.4.6 脉冲激光沉积法 | 第19-21页 |
| 1.5 氮化碳的研究意义 | 第21页 |
| 1.6 当前研究存在的问题 | 第21-22页 |
| 1.7 本文的立题依据及主要研究内容 | 第22-24页 |
| 1.7.1 立题依据 | 第22页 |
| 1.7.2 主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 氮化碳薄膜的PLD制备与表征技术 | 第24-36页 |
| 2.1 概述 | 第24页 |
| 2.2 PLD系统组成及其原理 | 第24-26页 |
| 2.2.1 沉积系统 | 第24-25页 |
| 2.2.2 基本原理 | 第25-26页 |
| 2.3 脉冲激光沉积的工艺参数 | 第26-27页 |
| 2.4 脉冲激光沉积的特点 | 第27-28页 |
| 2.4.1 PLD技术的优点 | 第27页 |
| 2.4.2 PLD技术的不足 | 第27-28页 |
| 2.5 直流辉光放电辅助沉积技术 | 第28-31页 |
| 2.5.1 直流辉光放电基本原理 | 第28-31页 |
| 2.6 试验装置及方法 | 第31-32页 |
| 2.6.1 准分子激光器 | 第31页 |
| 2.6.2 试验装置 | 第31-32页 |
| 2.6.3 薄膜的制备工艺 | 第32页 |
| 2.7 薄膜的表征方法 | 第32-36页 |
| 2.7.1 化学成分表征 | 第32页 |
| 2.7.2 组织结构表征 | 第32-33页 |
| 2.7.3 机械性能表征 | 第33-36页 |
| 第3章 CN_x薄膜制备工艺的优化 | 第36-43页 |
| 3.1 正交试验 | 第36-37页 |
| 3.1.1 正交试验设计 | 第36页 |
| 3.1.2 结果分析 | 第36-37页 |
| 3.2 薄膜的表面形貌及微观结构分析 | 第37-39页 |
| 3.3 最优薄膜的XPS分析 | 第39-40页 |
| 3.4 薄膜的摩擦学特性分析 | 第40-42页 |
| 3.4.1 摩擦系数 | 第40-41页 |
| 3.4.2 最优薄膜的摩擦磨损性能 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 激光通量对薄膜微观结构和摩擦学特性的影响 | 第43-54页 |
| 4.1 薄膜的表面形貌 | 第43-45页 |
| 4.2 薄膜的XPS分析 | 第45-48页 |
| 4.3 薄膜的拉曼散射分析 | 第48-50页 |
| 4.4 薄膜的摩擦学性能 | 第50-53页 |
| 4.4.1 膜-基结合力测试 | 第50页 |
| 4.4.2 摩擦磨损性能分析 | 第50-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 沉积气压对薄膜微观结构和摩擦学特性的影响 | 第54-64页 |
| 5.1 薄膜的表面形貌 | 第54-56页 |
| 5.2 薄膜的XPS分析 | 第56-59页 |
| 5.3 薄膜的拉曼散射分析 | 第59-61页 |
| 5.4 薄膜的摩擦学特性分析 | 第61-63页 |
| 5.4.1 膜-基底结合力测试 | 第61页 |
| 5.4.2 摩擦磨损性能分析 | 第61-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第6章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 结论 | 第64-65页 |
| 6.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 硕士学位在读期间参与的科研项目和论文成果 | 第74页 |
