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基于化学气相沉积法制备VO2薄膜及其光、电性能与应用研究

摘要第6-8页
ABSTRACT第8-10页
第一章 绪论第14-42页
    1.1 VO_2的热致变色性能及应用第16-19页
    1.2 VO_2的热敏性能及应用第19-23页
    1.3 VO_2薄膜制备工艺选择第23-33页
        1.3.1 液相法第23-26页
        1.3.2 磁控溅射法第26-28页
        1.3.3 脉冲激光法第28-30页
        1.3.4 化学气相沉积法第30-33页
    1.4 VO_2掺杂改性第33-40页
        1.4.1 M相单掺杂第33-38页
        1.4.2 B相单掺杂第38页
        1.4.3 共掺第38-40页
    1.5 本课题研究内容第40-42页
第二章 VO_2薄膜制备与表征方法第42-55页
    2.1 CVD法制备VO_2薄膜第42-46页
        2.1.1 实验的主要仪器和材料第42-44页
        2.1.2 基底预处理第44页
        2.1.3 实验步骤第44-46页
    2.2 薄膜的表征分析方法第46-55页
        2.2.1 模拟计算表征手段第46-47页
        2.2.2 常规表征手段第47-53页
        2.2.3 其它表征手段第53-55页
第三章 CVD法VO_2(M)热致变色膜的制备与性能研究第55-76页
    3.1 引言第55-56页
    3.2 实验工艺及表征方法第56-58页
        3.2.1 实验原料及仪器第56页
        3.2.2 实验流程第56-57页
        3.2.3 样品表征及分析第57-58页
    3.3 实验结果与讨论第58-74页
        3.3.1 沉积过程中Ar气流量对薄膜物相结构的影响第58-60页
        3.3.2 退火时间对薄膜物相结构的影响第60-61页
        3.3.3 沉积时间对薄膜结构和光学性能的影响第61-65页
        3.3.4 退火温度对薄膜结构和光学性能的影响以及第一性原理分析第65-72页
        3.3.5 两步生长工艺第72-74页
    3.4 本章小结第74-76页
第四章 掺杂VO_2(M)热致变色膜的制备与性能研究第76-99页
    4.1 引言第76-77页
    4.2 实验工艺及表征方法第77-78页
        4.2.1 实验原料及仪器第77页
        4.2.2 实验流程第77页
        4.2.3 样品表征及分析第77-78页
    4.3 实验结果与讨论第78-97页
        4.3.1 掺杂浓度对薄膜光学性能的影响第78-91页
        4.3.2 单掺和共掺对薄膜物相及微观结构的影响第91-96页
        4.3.3 单掺和共掺对薄膜光学性能的影响第96-97页
    4.4 本章小结第97-99页
第五章 CVD法VO_2(B)热敏膜的制备及性能研究第99-112页
    5.1 引言第99页
    5.2 实验工艺及表征方法第99-100页
        5.2.1 实验原料及仪器第99-100页
        5.2.2 实验流程第100页
        5.2.3 样品表征及分析第100页
    5.3 实验结果与讨论第100-111页
        5.3.1 Ar气流量对薄膜结构和电学性能的影响第100-106页
        5.3.2 沉积温度对薄膜结构和电学性能的影响第106-110页
        5.3.3 原位退火工艺第110-111页
    5.4 本章小结第111-112页
第六章 掺杂VO_2(B)热敏膜的制备与性能研究第112-128页
    6.1 引言第112-113页
    6.2 实验工艺及表征方法第113-115页
        6.2.1 实验原料及仪器第113-114页
        6.2.2 实验流程第114页
        6.2.3 样品表征及分析第114-115页
    6.3 实验结果与讨论第115-127页
        6.3.1 物相和微观结构第115-119页
        6.3.2 同步辐射表征电子结构第119-124页
        6.3.3 光学和电学性能第124-127页
    6.4 本章小结第127-128页
第七章 结论与展望第128-131页
    7.1 结论第128-129页
    7.2 创新点第129页
    7.3 展望第129-131页
参考文献第131-160页
攻读博士学位期间发表的论文及申请的专利第160-162页
致谢第162页

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