摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-27页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 多铁性材料简介 | 第9-21页 |
1.2.1 单相多铁性材料 | 第11-14页 |
1.2.2 复合多铁性材料 | 第14-21页 |
1.3 磁电阻效应及自旋整流效应 | 第21-25页 |
1.3.1 磁电阻效应 | 第21-24页 |
1.3.2 自旋整流效应 | 第24-25页 |
1.4 本论文工作内容、目的和意义 | 第25-27页 |
第2章 样品制备与表征技术 | 第27-38页 |
2.1 样品的制备 | 第27-33页 |
2.1.1 薄膜制备的主要方法及基本原理 | 第27-30页 |
2.1.2 薄膜的性能表征手段 | 第30-33页 |
2.2 微纳加工中主要工艺简介 | 第33-36页 |
2.2.1 曝光工艺 | 第33-35页 |
2.2.2 刻蚀工艺 | 第35-36页 |
2.3 基于电检测的铁磁共振测试系统的搭建 | 第36-37页 |
2.4 本章小结 | 第37-38页 |
第3章 NiFe/BNTM异质结制备及电场调控磁电输运性能 | 第38-51页 |
3.1 引言 | 第38-39页 |
3.2 BNTM铁电薄膜的制备与性能表征 | 第39-41页 |
3.2.1 BNTM薄膜制备 | 第39-40页 |
3.2.2 BNTM薄膜的性能表征 | 第40-41页 |
3.3 NiFe/BNTM异质结制备 | 第41-43页 |
3.4 NiFe/BNTM异质结的磁电阻性能 | 第43-44页 |
3.5 NiFe/BNTM异质结的铁磁共振 | 第44-50页 |
3.6 本章小结 | 第50-51页 |
第4章 CoFeB/MgO/CoFeB/PMN-PT异质结制备及电场调控磁电输运性能 | 第51-64页 |
4.1 引言 | 第51-52页 |
4.2 CoFeB/MgO/CoFeB/PMN-PT异质结微纳加工 | 第52-56页 |
4.3 CoFeB/MgO/CoFeB/PMN-PT异质结的磁电阻性能 | 第56-58页 |
4.4 CoFeB/MgO/CoFeB/PMN-PT异质结的铁磁共振 | 第58-63页 |
4.5 本章小结 | 第63-64页 |
第5章 总结与展望 | 第64-66页 |
5.1 论文总结 | 第64-65页 |
5.2 工作展望 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
附录 个人简历与在学期间的研究成果 | 第75-76页 |
个人简历 | 第75页 |
在学期间的研究成果 | 第75-76页 |