| 摘要 | 第7-9页 |
| abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-15页 |
| 1.2 半导体光催化产氢的基本原理 | 第15-16页 |
| 1.3 半导体光催化活性的影响因素 | 第16-19页 |
| 1.3.1 半导体能带位置 | 第16-17页 |
| 1.3.2 晶体结构 | 第17页 |
| 1.3.3 晶格缺陷 | 第17-18页 |
| 1.3.4 比表面积 | 第18页 |
| 1.3.5 半导体晶粒尺寸 | 第18页 |
| 1.3.6 其他因素影响 | 第18-19页 |
| 1.4 可见光光催化剂研究 | 第19-20页 |
| 1.5 CdS基光催化剂研究 | 第20-21页 |
| 1.6 选题依据和主要研究内容 | 第21-24页 |
| 1.6.1 选题依据 | 第21-22页 |
| 1.6.2 主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 原料、仪器设备及分析表征 | 第24-30页 |
| 2.1 原料试剂 | 第24-25页 |
| 2.2 仪器设备 | 第25页 |
| 2.3 分析与表征 | 第25-30页 |
| 2.3.1 光催化反应测试 | 第25-27页 |
| 2.3.2 X射线衍射分析(XRD) | 第27页 |
| 2.3.3 扫描电子显微分析(SEM) | 第27页 |
| 2.3.4 透射电子显微分析(TEM) | 第27页 |
| 2.3.5 紫外-可见漫反射分析(UV-VisDRS) | 第27-28页 |
| 2.3.6 比表面积测试(BET) | 第28页 |
| 2.3.7 光致荧光测试(PL) | 第28-29页 |
| 2.3.8 瞬态光电流测试 | 第29页 |
| 2.3.9 电化学阻抗谱测试(EIS) | 第29-30页 |
| 第三章 多孔CdS基固溶体(Zn_(1-x)Cd_xS)制备及其产氢性能研究 | 第30-44页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 Zn_(1-x)Cd_xS半导体光催化剂制备 | 第30-32页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第32-42页 |
| 3.3.1 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂物相组成分析 | 第32-33页 |
| 3.3.2 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂形貌分析 | 第33-35页 |
| 3.3.3 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂紫外-可见漫反射分析 | 第35-36页 |
| 3.3.4 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂产氢性能及稳定性分析 | 第36-38页 |
| 3.3.5 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂荧光测试分析 | 第38-39页 |
| 3.3.6 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂比表面积测试分析 | 第39-40页 |
| 3.3.7 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂瞬态光电流测试分析 | 第40-41页 |
| 3.3.8 Zn_(1-x)Cd_xS光催化剂电化学阻抗测试分析 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 CdS/MOF异质结构光催化剂制备及其产氢性能研究 | 第44-62页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 CdS/MOF异质结构光催化剂制备 | 第44-46页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第46-59页 |
| 4.3.1 CdS/MOF异质结构光催化剂物相组成分析 | 第46-48页 |
| 4.3.2 CdS/MOF异质结构光催化剂微观形貌分析 | 第48-49页 |
| 4.3.3 CdS/MOF异质结构光催化剂紫外-可见漫反射分析 | 第49-50页 |
| 4.3.4 CdS/MOF异质结构光催化剂产氢性能及其稳定性分析 | 第50-53页 |
| 4.3.5 CdS/MOF异质结构光催化剂荧光测试分析 | 第53-55页 |
| 4.3.6 CdS/MOF异质结构光催化剂比表面积测试分析 | 第55-56页 |
| 4.3.7 CdS/MOF异质结构光催化剂瞬态光电流测试分析 | 第56-57页 |
| 4.3.8 CdS/MOF异质结构光催化剂电化学阻抗测试分析 | 第57-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-62页 |
| 第五章 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂制备及其产氢性能研究 | 第62-76页 |
| 5.1 引言 | 第62页 |
| 5.2 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂制备 | 第62-63页 |
| 5.3 实验结果与分析 | 第63-73页 |
| 5.3.1 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂物相组成分析 | 第63-65页 |
| 5.3.2 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂形貌分析 | 第65-66页 |
| 5.3.3 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂紫外-可见漫反射分析 | 第66-67页 |
| 5.3.4 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂产氢性能及稳定性分析 | 第67-70页 |
| 5.3.5 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂荧光测试分析 | 第70-71页 |
| 5.3.6 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂瞬态光电流测试分析 | 第71-72页 |
| 5.3.7 CdS/MoS_2和CdS/P-MoS_2光催化剂电化学阻抗测试分析 | 第72-73页 |
| 5.4 本章小结 | 第73-76页 |
| 第六章 结论与展望 | 第76-78页 |
| 6.1 结论 | 第76-77页 |
| 6.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 附录 | 第90-91页 |
