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65nm工艺下基于RRAM的非易失性SRAM单元设计

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-17页
    1.1 研究背景第9-15页
        1.1.1 题背景及意义第9-10页
        1.1.2 存储器的分类与比较第10-12页
        1.1.3 国内外研究现状第12-15页
    1.2 本文的研究内容第15页
    1.3 论文结构第15-17页
第2章 基于RRAM的非易失性SRAM原理及分析第17-26页
    2.1 SRAM整体结构第17-18页
    2.2 SRAM工作原理第18-20页
    2.3 RRAM原理分析及功能验证第20-23页
        2.3.1 RRAM基本原理第20-21页
        2.3.2 RRAM模型仿真验证第21-23页
    2.4 NVSRAM工作原理及分析第23-25页
        2.4.1 NVSRAM基本原理第23-25页
        2.4.2 NVSRAM操作流程第25页
    2.5 本章小结第25-26页
第3章 基于RRAM的非易失性SRAM单元设计第26-35页
    3.1 单边接入理念第26-31页
        3.1.1 单边接入第26-27页
        3.1.2 多电源电压结构第27-29页
        3.1.3 多阈值电压结构第29-31页
    3.2 改进型9T1R非易失性SRAM单元设计第31-34页
        3.2.1 结构原理分析第31-32页
        3.2.2 时序仿真分析第32-34页
    3.3 本章小结第34-35页
第4章 改进型非易失性SRAM单元性能分析第35-51页
    4.1 单元基本性能分析第35-43页
        4.1.1 保持能力第35-37页
        4.1.2 写能力第37-40页
        4.1.3 读能力第40-43页
    4.2 数据恢复率与恢复时间分析第43-47页
        4.2.1 恢复率第43-46页
        4.2.2 恢复速度第46-47页
    4.3 功耗分析第47-50页
        4.3.1 恢复功耗第47-48页
        4.3.2 动态功耗第48-49页
        4.3.3 静态保持功耗第49-50页
    4.4 本章小结第50-51页
第5章 总结与展望第51-53页
    5.1 总结第51页
    5.2 展望第51-53页
参考文献第53-57页
致谢第57页

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