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基于纳米孔和纳米阵列的单分子DNA测序技术基础研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4-5页
目录第6-9页
第1章 绪论第9-36页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 DNA 测序技术进展第10-34页
        1.2.1 Sanger 双脱氧终止法测序技术第10-12页
        1.2.2 第二代测序技术第12-19页
            1.2.2.1 基于边合成边测序的二代测序技术(sequencing by synthesis, SBS)第12-17页
                1.2.2.1.1 Illumina 公司的 Solexa 技术第12-13页
                1.2.2.1.2 罗氏公司的焦磷酸测序技术(454)第13-15页
                1.2.2.1.3 基于公式一的其他 SBS 测序方法第15-16页
                1.2.2.1.4 基于可逆染料的 SBS 测序方法第16-17页
            1.2.2.2 基于连接法的二代测序技术(sequencing by ligation, SBL)第17-19页
            1.2.2.3 基于杂交法测序的二代测序技术(sequencing by hybridization, SBH)第19页
        1.2.3 第三代测序技术第19-34页
            1.2.3.1 单分子合成测序技术第19-23页
                1.2.3.1.1 分步合成测序第19-21页
                1.2.3.1.2 实时检测测序第21-23页
            1.2.3.2 纳米孔测序技术第23-31页
                1.2.3.2.1 纳米孔直接测序第23-28页
                1.2.3.2.2 结合纳米孔的其他测序技术第28-31页
            1.2.3.3 显微镜类单分子测序第31-34页
    1.3 研究内容第34-36页
第2章 基于纳米孔的单分子 DNA 测序基础研究第36-52页
    2.1 材料与仪器第36-38页
        2.1.1 实验材料与试剂第36-37页
        2.1.2 实验仪器第37-38页
    2.2 方法第38-42页
        2.2.1 氮化硅基底的制备第38-39页
        2.2.2 石墨烯的制备与转移第39页
        2.2.3 石墨烯纳米孔的制备第39页
        2.2.4 半导体单壁碳纳米管(S-SWNT)纳米孔的制备第39-41页
        2.2.5 纳米孔膜片钳检测装置第41-42页
            2.2.5.1 膜片钳装置搭建第41-42页
            2.2.5.2 DNA 穿越石墨烯纳米孔实验第42页
            2.2.5.3 dNMPs 穿越 SWNT 纳米孔实验第42页
    2.3 结果与分析第42-52页
        2.3.1 DNA 穿越石墨烯纳米孔第42-47页
            2.3.1.1 氮化硅基底的制备与表征第42-43页
            2.3.1.2 石墨烯纳米孔表征第43-44页
            2.3.1.3 λ-DNA 穿越石墨烯纳米孔的初步信号检测第44-46页
            2.3.1.4 DNA 穿孔噪音分析第46-47页
        2.3.2 dNMPs 穿越 SWNT 纳米孔第47-52页
            2.3.2.1 SWNT 的结构表征第47-49页
            2.3.2.2 dNMPs 穿孔检测第49-52页
第3章 基于纳米阵列的单分子 DNA 测序基础研究第52-67页
    3.1 材料与仪器第52-54页
        3.1.1 实验材料与试剂第52-53页
        3.1.2 实验仪器第53-54页
    3.2 方法第54-58页
        3.2.1 纳米坑阵列的制备第54-55页
            3.2.1.1 石英基片的清洗第55页
            3.2.1.2 表面镀金膜第55页
            3.2.1.3 表面金膜粗糙度表征第55页
            3.2.1.4 纳米坑阵列的制备第55页
        3.2.2 DNA-STV 复合物的制备第55-57页
            3.2.2.1 biotin-dsDNA 的制备第56页
            3.2.2.2 DNA-STV 的结合第56-57页
            3.2.2.3 DNA-STV 的分离第57页
        3.2.3 DNA-STV 的初步穿孔实验第57页
        3.2.4 纳米坑固定 DNA-STV 的化学处理第57-58页
        3.2.5 纳米坑固定结果的检测第58页
            3.2.5.1 AFM 检测第58页
            3.2.5.2 TIRF 检测第58页
    3.3 结果与分析第58-67页
        3.3.1 dsDNA 产物纯化及浓度测定第58-59页
        3.3.2 dsDNA-STV 结合物的琼脂糖电泳与 AFM 检测第59-61页
        3.3.3 dsDNA-STV 复合物的电泳分离第61-62页
        3.3.4 DNA-STV 的初步穿孔数据及分析第62-63页
        3.3.5 纳米坑的表征第63-64页
        3.3.6 纳米坑 dsDNA-STV 固定结果第64-67页
第4章 结论第67-71页
    4.1 总结与分析第67-69页
    4.2 进一步工作研究第69-71页
参考文献第71-85页
致谢第85-86页
攻读学位期间的学术成果目录第86-88页

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