磁流变抛光液性能及加工参数优化的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 磁流变液研究背景 | 第12-15页 |
| 1.1.1 引言 | 第12页 |
| 1.1.2 磁流变液组成 | 第12-13页 |
| 1.1.3 磁流变液性能 | 第13-14页 |
| 1.1.4 MR Fluid 国内外研究情况 | 第14-15页 |
| 1.2 磁流变抛光背景 | 第15-20页 |
| 1.2.1 引言 | 第15-16页 |
| 1.2.2 磁流变抛光原理 | 第16-17页 |
| 1.2.3 磁流变抛光国内外研究情况 | 第17-20页 |
| 1.3 论文研究内容 | 第20页 |
| 1.4 本章小结 | 第20-21页 |
| 第2章 磁流变抛光液的优化研究 | 第21-44页 |
| 2.1 磁流变抛光液的组成选择 | 第21-23页 |
| 2.1.1 磁敏粒子的选择 | 第21-22页 |
| 2.1.2 基载液的选择 | 第22页 |
| 2.1.3 抛光粉的选择 | 第22-23页 |
| 2.2 磁流变液沉降性优化 | 第23-39页 |
| 2.2.1 沉降原因分析 | 第23-25页 |
| 2.2.2 防沉降模型 | 第25-39页 |
| 2.3 磁流变液防锈性优化 | 第39-42页 |
| 2.3.1 防锈实验设计 | 第39-40页 |
| 2.3.2 防锈性评价方法 | 第40-41页 |
| 2.3.3 实验结果与分析 | 第41-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第3章 加工参数与去除函数形状的关系 | 第44-61页 |
| 3.1 加工去除函数形状分析 | 第44-46页 |
| 3.2 实验器材与评价方法 | 第46-52页 |
| 3.2.1 实验设备 | 第46-47页 |
| 3.2.2 计算方法 | 第47-52页 |
| 3.3 实验设计 | 第52-60页 |
| 3.3.1 压量与去除函数形状的关系 | 第52-54页 |
| 3.3.2 流量与去除函数形状的关系 | 第54-55页 |
| 3.3.3 Fe 粒度与去除函数形状的关系 | 第55-57页 |
| 3.3.4 CeO_2浓度与去除函数形状的关系 | 第57-58页 |
| 3.3.5 CeO_2粒度与去除函数形状的关系 | 第58-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 磁流变抛光工艺参数的正交实验分析 | 第61-67页 |
| 4.1 正交分析 | 第61-64页 |
| 4.1.1 正交实验设计 | 第61页 |
| 4.1.2 实验结果分析 | 第61-64页 |
| 4.2 灰色关联分析 | 第64-66页 |
| 4.3 本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 总结 | 第67-68页 |
| 5.2 展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第74页 |
