| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 射流电沉积技术及其研究现状 | 第12-17页 |
| 1.1.1 电沉积技术 | 第12-13页 |
| 1.1.2 射流电沉积技术 | 第13-17页 |
| 1.2 流动聚焦技术及其研究现状 | 第17-22页 |
| 1.3 本文的主要研究内容及意义 | 第22-23页 |
| 1.4 本文的创新点 | 第23-26页 |
| 2 射流和射流电沉积技术基础 | 第26-37页 |
| 2.1 自由射流 | 第26-30页 |
| 2.1.1 自由射流的基本概念 | 第26-27页 |
| 2.1.2 自由射流的一般特性 | 第27-30页 |
| 2.2 冲击射流 | 第30-33页 |
| 2.2.1 冲击射流的基本流动特性 | 第30-31页 |
| 2.2.2 冲击射流的速度分布 | 第31-33页 |
| 2.3 射流电沉积原理 | 第33-37页 |
| 3 聚焦射流流场仿真分析 | 第37-59页 |
| 3.1 物理模型建立 | 第37-38页 |
| 3.2 网格划分 | 第38-39页 |
| 3.3 控制方程与边界条件 | 第39-41页 |
| 3.4 仿真过程 | 第41页 |
| 3.5 仿真结果分析 | 第41-58页 |
| 3.5.1 聚焦射流流场特性 | 第41-52页 |
| 3.5.2 气体压强差对聚焦射流流场的影响 | 第52-53页 |
| 3.5.3 液体流量对聚焦射流流场的影响 | 第53-55页 |
| 3.5.4 喷嘴与聚焦孔的距离对聚焦射流流场的影响 | 第55-56页 |
| 3.5.5 聚焦孔的直径对聚焦射流流场的影响 | 第56页 |
| 3.5.6 聚焦孔的长度对聚焦射流流场的影响 | 第56-58页 |
| 3.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 4 聚焦射流观测实验研究 | 第59-84页 |
| 4.1 实验装置与方法 | 第59-63页 |
| 4.1.1 聚焦射流装置 | 第59-61页 |
| 4.1.2 气-液控制系统 | 第61-62页 |
| 4.1.3 动态分析三维显示系统 | 第62-63页 |
| 4.2 聚焦射流形成参数与流场特性的关系 | 第63-80页 |
| 4.2.1 气体压强差 | 第63-67页 |
| 4.2.2 液体流量 | 第67-71页 |
| 4.2.3 喷嘴与聚焦孔的距离 | 第71-75页 |
| 4.2.4 聚焦孔的直径 | 第75-77页 |
| 4.2.5 聚焦孔的长度 | 第77-80页 |
| 4.3 聚焦射流冲击流场特性 | 第80-81页 |
| 4.4 本章小结 | 第81-84页 |
| 5 聚焦射流电沉积基础工艺试验研究 | 第84-94页 |
| 5.1 实验条件及参数 | 第84-85页 |
| 5.2 聚焦射流形成参数对沉积层三维廓形的影响 | 第85-92页 |
| 5.2.1 气体压强差 | 第85-87页 |
| 5.2.2 液体流量 | 第87-89页 |
| 5.2.3 喷嘴与聚焦孔的距离 | 第89-90页 |
| 5.2.4 聚焦孔的直径 | 第90-91页 |
| 5.2.5 聚焦孔的长度 | 第91-92页 |
| 5.3 本章小结 | 第92-94页 |
| 6 结论与展望 | 第94-96页 |
| 6.1 结论 | 第94-95页 |
| 6.2 展望 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-100页 |
| 作者简历 | 第100-102页 |
| 学位论文数据集 | 第102页 |