| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 非晶碳薄膜的特性 | 第11-16页 |
| 1.2.1 非晶碳的键合特性 | 第11-12页 |
| 1.2.2 非晶碳的能带特性 | 第12-13页 |
| 1.2.3 非晶碳的结构表征 | 第13-15页 |
| 1.2.4 非晶碳的光电导特性 | 第15-16页 |
| 第二章 实验部分 | 第16-25页 |
| 2.1 样品的制备 | 第16-20页 |
| 2.1.1 实验药品及仪器名称 | 第16-17页 |
| 2.1.2 靶材和基片的准备 | 第17-18页 |
| 2.1.3 非晶碳薄膜的制备 | 第18-20页 |
| 2.2 样品的表征 | 第20-23页 |
| 2.2.1 原子力显微镜 | 第20-21页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第21页 |
| 2.2.3 X射线衍射 | 第21-22页 |
| 2.2.4 拉曼光谱 | 第22-23页 |
| 2.3 薄膜的性能测试方法 | 第23-25页 |
| 2.3.1 综合物性测量系统 | 第23-24页 |
| 2.3.2 光学低温平台 | 第24-25页 |
| 第三章 制备参数对非晶碳薄膜的影响 | 第25-33页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 不同生长参数对非晶碳薄膜的影响 | 第25-33页 |
| 3.2.1 衬底温度的影响 | 第25-27页 |
| 3.2.2 溅射气压的影响 | 第27-30页 |
| 3.2.3 不同溅射功率 | 第30-33页 |
| 第四章 刚性掺杂非晶碳薄膜的光电特性 | 第33-39页 |
| 4.1 硅衬底非晶碳薄膜拉曼光谱图 | 第33-35页 |
| 4.2 非晶碳薄膜光电特性与温度以及磁场的关系 | 第35-37页 |
| 4.3 非晶碳薄膜在不同波长光照条件下的光电导特性 | 第37-39页 |
| 第五章 柔性非晶碳薄膜的制备与性能研究 | 第39-57页 |
| 5.1 引言 | 第39页 |
| 5.2 样品的制备 | 第39-42页 |
| 5.2.1 柔性非晶碳薄膜的制备 | 第39-42页 |
| 5.3 柔性样品的表征 | 第42-46页 |
| 5.3.1 柔性非晶碳薄膜的表面原子力显微图 | 第42-43页 |
| 5.3.2 柔性非晶碳薄膜的横截面扫描电镜图 | 第43-44页 |
| 5.3.3 柔性非晶碳薄膜的拉曼图谱 | 第44-45页 |
| 5.3.4 柔性单晶金薄膜的XRD衍射图谱 | 第45-46页 |
| 5.4 柔性非晶碳薄膜的性能测试 | 第46-57页 |
| 5.4.1 柔性非晶碳薄膜测试准备 | 第46-47页 |
| 5.4.2 柔性非晶碳薄膜电阻随温度(R-T)变化曲线 | 第47页 |
| 5.4.3 柔性非晶碳薄膜应力响应特性 | 第47-50页 |
| 5.4.4 柔性非晶碳薄膜气压响应特性 | 第50-53页 |
| 5.4.5 柔性非晶碳薄膜抗疲劳特性 | 第53-54页 |
| 5.4.6 柔性非晶碳薄膜光电特性 | 第54-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63页 |