| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 低维碳纳米材料概述 | 第12-27页 |
| 1.2.1 富勒烯 | 第13-15页 |
| 1.2.2 内嵌金属富勒烯 | 第15-18页 |
| 1.2.3 碳纳米管 | 第18-20页 |
| 1.2.4 石墨烯 | 第20-21页 |
| 1.2.5 二维石墨炔 | 第21-25页 |
| 1.2.6 石墨炔纳米带 | 第25-27页 |
| 1.3 本论文选题与主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 理论背景和计算方法 | 第29-39页 |
| 2.1 引言 | 第29-30页 |
| 2.2 第一性原理模拟 | 第30-33页 |
| 2.2.1 从头算方法 | 第30-32页 |
| 2.2.2 第一性原理方法 | 第32-33页 |
| 2.3 密度泛函理论方法 | 第33-38页 |
| 2.3.1 Thomas-Fermi模型 | 第33页 |
| 2.3.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第33-34页 |
| 2.3.3 Kohn-Sham方程 | 第34-35页 |
| 2.3.4 交换关联泛函 | 第35-38页 |
| 2.4 计算软件简介 | 第38-39页 |
| 2.4.1 Gaussian 09 | 第38页 |
| 2.4.2 Siesta | 第38-39页 |
| 第三章 锯齿形A型石墨炔纳米带的密度泛函理论研究 | 第39-53页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 计算方法 | 第39-41页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第41-52页 |
| 3.3.1 几何结构 | 第41-42页 |
| 3.3.2 形成能 | 第42-43页 |
| 3.3.3 电子结构 | 第43-46页 |
| 3.3.4 反铁磁基态与铁磁亚稳态能量差 | 第46-47页 |
| 3.3.5 磁矩分析 | 第47-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 金属内嵌C_(20)富勒烯的密度泛函理论研究 | 第53-68页 |
| 4.1 研究背景 | 第53-54页 |
| 4.2 计算方法 | 第54-55页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第55-67页 |
| 4.3.1 几何结构优化 | 第55-57页 |
| 4.3.2 相对稳定型 | 第57-58页 |
| 4.3.3 HOMO-LUMO能隙 | 第58-60页 |
| 4.3.4 电荷转移特性 | 第60-61页 |
| 4.3.5 成键分析 | 第61-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 5.1 全文结论 | 第68-69页 |
| 5.2 创新点 | 第69页 |
| 5.3 工作展望 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-84页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及科研成果 | 第84页 |