| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 研究前言 | 第9-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 半导体光催化技术概述 | 第9-10页 |
| 1.3 半导体光催化技术开发及实际应用 | 第10-13页 |
| 1.4 半导体光催化的基本原理 | 第13-15页 |
| 1.5 光催化半导体材料概述 | 第15-19页 |
| 1.6 光催化材料的分类 | 第19-22页 |
| 1.7 光催化领域目前存在的主要问题 | 第22-23页 |
| 1.8 解决光催化领域问题的主要途径 | 第23-25页 |
| 1.9 选题意义及研究内容 | 第25-28页 |
| 第二章 实验药品与器材 | 第28-32页 |
| 2.1 实验药品 | 第28-29页 |
| 2.2 材料的表征方法和手段 | 第29-30页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪(XRD) | 第29页 |
| 2.2.2 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第29页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第29页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第29页 |
| 2.2.5 N_2吸脱附曲线分析仪(BET) | 第29页 |
| 2.2.6 紫外-可见漫反射光谱(UV-VisDiffuseReflectanceSpectrum) | 第29-30页 |
| 2.2.7 热重分析(TG-DTA) | 第30页 |
| 2.2.8 Zeta电位(ZetaPotential) | 第30页 |
| 2.2.9 光电化学测试 (Photoelectrochemical Test) | 第30页 |
| 2.3 有机污染物的降解活性测试 | 第30-32页 |
| 第三章 Ruddlesden-Popper型La_4Ni_3O_(10)催化剂的制备及其有机污染物降解性能的研究 | 第32-41页 |
| 3.1 引言 | 第32-33页 |
| 3.2 实验部分 | 第33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 3.3.1 XRD图谱及结构分析 | 第33-34页 |
| 3.3.2 La_(n+1)Ni_nO_(3n+1)系列催化剂的活性分析 | 第34页 |
| 3.3.3 层间氧含量及电子传输速率比较 | 第34-35页 |
| 3.3.4 La_4Ni_3O_(10)焙烧温度的考查 | 第35-36页 |
| 3.3.5 La_4Ni_3O_(10)的相貌及其比表面积 | 第36-37页 |
| 3.3.6 La_4Ni_3O_(10)的催化活性 | 第37-38页 |
| 3.3.7 La_4Ni_3O_(10)降解普适性考查 | 第38-39页 |
| 3.3.8 La_4Ni_3O_(10)的捕获实验及其机理研究 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 La_2NiO_4纳米球的制备及其全天候有机物降解性能的研究 | 第41-49页 |
| 4.1 前言 | 第41页 |
| 4.2 实验部分 | 第41-42页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第42-48页 |
| 4.3.1 前驱体的TG分析和XRD分析 | 第42页 |
| 4.3.2 催化剂的形貌分析 | 第42-43页 |
| 4.3.3 La_2NiO_4催化剂的比表面积分析 | 第43-44页 |
| 4.3.4 催化剂的活性测试 | 第44页 |
| 4.3.5 La_2NiO_4空心纳米球催化剂光电流和反应体系温度的测试 | 第44-45页 |
| 4.3.6 催化剂光电流和反应体系温度的的测试 | 第45-46页 |
| 4.3.7 催化剂降解机理的研究 | 第46-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 La_2NiO_4纳米片在光电催化尿素氧化中的应用 | 第49-56页 |
| 5.1 前言 | 第49-50页 |
| 5.2 实验部分 | 第50页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第50-55页 |
| 5.3.1 多孔La_2NiO_4纳米片催化剂的形貌和结构分析 | 第50-52页 |
| 5.3.2 La_2NiO_4催化剂的光电催化活性 | 第52-53页 |
| 5.3.3 光电流测试和活性比较 | 第53-54页 |
| 5.3.4 La_2NiO_4催化剂的稳定性测试 | 第54-55页 |
| 5.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-73页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
