摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第11-34页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 燃料电池 | 第11-14页 |
1.2.1 燃料电池催化剂 | 第12-13页 |
1.2.2 Pt肤层催化剂 | 第13-14页 |
1.3 Pt肤层催化剂制备 | 第14-17页 |
1.3.1 UPD-置换技术 | 第15-16页 |
1.3.2 模拟欠电位沉积(MUPD)方法 | 第16-17页 |
1.4 反应体系介绍 | 第17-20页 |
1.4.1 甲酸氧化反应 | 第17-18页 |
1.4.2 氧气还原反应 | 第18-20页 |
1.5 碱性介质中研究现状 | 第20-24页 |
1.5.1 表面增强红外光谱(SEIRAS) | 第20-21页 |
1.5.2 Ge红外窗口 | 第21-22页 |
1.5.3 金属薄膜的制备 | 第22-23页 |
1.5.4 Ge上制备金属薄膜 | 第23-24页 |
1.6 本论文的研究目的以及意义 | 第24-26页 |
参考文献 | 第26-34页 |
第二章 实验技术及试剂 | 第34-42页 |
2.1 实验主要试剂及实验仪 | 第34-35页 |
2.1.1 化学试剂及药品 | 第34-35页 |
2.1.2 实验仪器 | 第35页 |
2.2 材料的物相表征 | 第35-38页 |
2.2.1 场发射-扫描电子显微镜(FE-SEM) | 第35-36页 |
2.2.2 透射电子显微镜(TEM) | 第36页 |
2.2.3 感应耦合等离子体-原子发射光谱(ICP-AES) | 第36-37页 |
2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第37页 |
2.2.5 X射线衍射谱(XRD) | 第37-38页 |
2.3 电化学表征 | 第38-41页 |
2.3.1 催化剂表征电解池 | 第38页 |
2.3.2 光谱电解池 | 第38-39页 |
2.3.3 旋转圆盘电极(RDE) | 第39-40页 |
2.3.4 循环伏安法(CV) | 第40页 |
2.3.5 计时电流法(Chronoamperometry) | 第40-41页 |
参考文献 | 第41-42页 |
第三章 模拟欠电位沉积(MUPD)技术的拓展 | 第42-57页 |
3.1 前言 | 第42-43页 |
3.2 MUPD-置换法在Au表面修饰Pt | 第43-49页 |
3.2.1 还原剂的筛选 | 第43页 |
3.2.2 Au@Pt的制备 | 第43-45页 |
3.2.3 结果与讨论 | 第45-49页 |
3.3 MUPD-置换法在Pd/C表面修饰Pt-Pd | 第49-54页 |
3.3.1 Pd@Pd-Pt/C的制备 | 第50页 |
3.3.2 结果与讨论 | 第50-54页 |
3.4 小结及展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-57页 |
第四章 旋转电极欠电位沉积方法探索 | 第57-71页 |
4.1 前言 | 第57-58页 |
4.2 实验部分 | 第58页 |
4.2.1 催化剂的制备 | 第58页 |
4.2.2 催化剂的表征 | 第58页 |
4.3 结果与讨论 | 第58-68页 |
4.3.1 Pd black@Pt的物相及电化学表征 | 第59-60页 |
4.3.2 Pd@Pt/C的物相及电化学表征 | 第60-63页 |
4.3.3 Pt@Pd/C的电化学测试 | 第63-64页 |
4.3.4 Pt@Au/C的物相及电化学表征 | 第64-68页 |
4.4 小结与展望 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-71页 |
第五章 Ge基底上化学沉积Au、Pd金属薄膜 | 第71-84页 |
5.1 前言 | 第71-72页 |
5.2 纳米薄膜的制备 | 第72-74页 |
5.2.1 镀液的配制 | 第73页 |
5.2.2 Ge片的表面处理 | 第73页 |
5.2.3 薄膜的制备 | 第73页 |
5.2.4 电化学测试 | 第73-74页 |
5.3 结果与讨论 | 第74-81页 |
5.3.1 金属薄形貌及组分表征 | 第74-78页 |
5.3.2 金属薄膜电化学测试 | 第78-81页 |
5.4 小结与展望 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-84页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第84-85页 |
致谢 | 第85-86页 |