摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第12-20页 |
1.1 研究背景 | 第12页 |
1.2 四环素类抗生素的来源及危害 | 第12页 |
1.3 四环素类抗生素废水的处理方法 | 第12-15页 |
1.3.1 生物处理法 | 第12-13页 |
1.3.2 氯化法 | 第13页 |
1.3.3 高级氧化法 | 第13-15页 |
1.4 半导体光催化法 | 第15页 |
1.5 二氧化钛光催化剂的研究进展 | 第15-17页 |
1.5.1 二氧化钛光催化降解机理 | 第15-16页 |
1.5.2 提高二氧化钛光催化性能的途径 | 第16-17页 |
1.6 石墨烯材料的研究现状 | 第17-19页 |
1.6.1 石墨烯的结构及性质 | 第17-18页 |
1.6.2 二氧化钛/石墨烯复合材料的研究进展 | 第18-19页 |
1.7 论文的研究内容及意义 | 第19-20页 |
1.7.1 论文的研究内容 | 第19页 |
1.7.2 论文的研究意义 | 第19-20页 |
第2章 实验方法 | 第20-26页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第20-21页 |
2.1.1 实验试剂 | 第20页 |
2.1.2 实验仪器 | 第20-21页 |
2.2 催化剂样品的表征 | 第21-23页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD)的测定 | 第21-22页 |
2.2.2 透射电子显微镜扫描(TEM)的测定 | 第22页 |
2.2.3 扫描电子显微镜扫描(SEM)的测定 | 第22页 |
2.2.4 比表面积(BET)的测定 | 第22页 |
2.2.5 紫外吸收漫反射(UV-vis)的测定 | 第22页 |
2.2.6 X射线光电子能谱(XPS)的测定 | 第22-23页 |
2.2.7 傅式转换红外线光谱(FT-IR)的测定 | 第23页 |
2.3 光催化降解实验 | 第23-26页 |
第3章 锌掺杂二氧化钛光催化剂的制备及光催化性能的研究 | 第26-40页 |
3.1 锌掺杂二氧化钛(ZT)光催化剂的制备 | 第26-27页 |
3.1.1 催化剂的制备 | 第26页 |
3.1.2 催化剂的制备条件 | 第26-27页 |
3.2 ZT光催化剂的表征分析 | 第27-34页 |
3.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第27-28页 |
3.2.2 透射电子显微镜扫描(TEM)分析 | 第28-30页 |
3.2.3 比表面积(BET)分析 | 第30页 |
3.2.4 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第30-33页 |
3.2.5 紫外吸收漫反射(UV-vis)分析 | 第33-34页 |
3.3 ZT光催化降解TCH活性评价 | 第34-38页 |
3.3.1 不同锌掺杂比例对ZT光催化活性的影响 | 第34-35页 |
3.3.2 不同煅烧温度对ZT光催化活性的影响 | 第35-36页 |
3.3.3 过氧化氢改性对ZT光催化活性的影响 | 第36-37页 |
3.3.4 HZT-1/9 催化剂的重复利用性 | 第37-38页 |
3.4 催化剂反应机理讨论 | 第38-40页 |
3.4.1 ZT光催化剂反应机理讨论 | 第38页 |
3.4.2 HZT-1/9 光催化剂反应机理讨论 | 第38-40页 |
第4章 锌掺杂二氧化钛/石墨烯的制备及光催化性能的研究 | 第40-51页 |
4.1 锌掺杂二氧化钛/石墨烯(ZT-G)的制备 | 第40-41页 |
4.1.1 石墨烯氧化物(GO)的制备 | 第40页 |
4.1.2 ZT-G的制备 | 第40页 |
4.1.3 ZT-G的制备条件 | 第40-41页 |
4.2 ZT-G复合材料的表征分析 | 第41-48页 |
4.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第41-42页 |
4.2.2 扫描电子显微镜扫描(SEM)分析 | 第42-43页 |
4.2.3 比表面积(BET)分析 | 第43-44页 |
4.2.4 傅里叶转换红外线光谱(FT-IR)分析 | 第44-45页 |
4.2.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第45-47页 |
4.2.6 紫外吸收漫反射(UV-vis)分析 | 第47-48页 |
4.3 ZT-G光催化降解TCH活性评价 | 第48-49页 |
4.3.1 不同GO/ZT质量比对ZT-G光催化活性的影响 | 第48-49页 |
4.3.2 不同水热温度对ZT-G光催化活性的影响 | 第49页 |
4.4 ZT-G复合材料反应机理讨论 | 第49-51页 |
第5章 结论与建议 | 第51-53页 |
5.1 结论 | 第51页 |
5.2 建议 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-61页 |
作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第61-62页 |
致谢 | 第62页 |