| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 激光熔覆 | 第12-13页 |
| 1.2.1 激光熔覆技术 | 第12页 |
| 1.2.2 激光熔覆的应用 | 第12-13页 |
| 1.3 固体润滑原理及固体润滑膜制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3.1 固体润滑原理及应用 | 第13-14页 |
| 1.3.2 固体润滑膜层制备方法 | 第14-15页 |
| 1.4 离子渗硫技术 | 第15-17页 |
| 1.4.1 离子渗硫机理 | 第15页 |
| 1.4.2 离子渗硫工艺研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4.3 常用渗硫材料 | 第16-17页 |
| 1.4.4 渗硫层的减摩润滑机理 | 第17页 |
| 1.5 本课题的研究内容 | 第17-19页 |
| 1.5.1 研究目标 | 第17页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 试验材料、方法及设备 | 第19-24页 |
| 2.1 试验材料 | 第19页 |
| 2.2 试样制备设备 | 第19-21页 |
| 2.2.1 激光熔覆设备 | 第19-20页 |
| 2.2.2 低温离子渗硫设备 | 第20-21页 |
| 2.3 摩擦磨损试验机 | 第21-22页 |
| 2.3.1 UMT-2 型微摩擦试验机 | 第21页 |
| 2.3.2 TRB-S-D-0000 型摩擦磨损实验机 | 第21-22页 |
| 2.4 微观分析设备 | 第22-24页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜（SEM） | 第22页 |
| 2.4.2 X射线衍射仪（XRD） | 第22页 |
| 2.4.3 俄歇电子能谱仪（AES） | 第22页 |
| 2.4.4 X射线光电子能谱仪（XPS） | 第22-23页 |
| 2.4.5 原子力显微镜（AFM） | 第23页 |
| 2.4.6 涂层附着力划痕仪（Scratching tester） | 第23-24页 |
| 第三章 靶材对Ni55复合渗硫层工艺和性能的影响 | 第24-48页 |
| 3.1 试验工艺研究 | 第24-32页 |
| 3.1.1 槽钢靶材离子渗硫工艺 | 第25-27页 |
| 3.1.2 钼靶离子渗硫工艺 | 第27-28页 |
| 3.1.3 钨靶离子渗硫工艺 | 第28-29页 |
| 3.1.4 铜靶离子渗硫工艺 | 第29-31页 |
| 3.1.5 讨论 | 第31-32页 |
| 3.2 多种硫化物复合层组织结构研究 | 第32-40页 |
| 3.2.1 复合层微观形貌 | 第32-34页 |
| 3.2.2 复合层物相组成 | 第34-35页 |
| 3.2.3 复合层成分及化合价态 | 第35-39页 |
| 3.2.4 复合层表面结合强度 | 第39-40页 |
| 3.3 多种硫化物复合层摩擦学性能研究 | 第40-47页 |
| 3.3.1 干摩擦条件下复合层的摩擦学性能 | 第40-44页 |
| 3.3.2 水润滑条件下复合层的摩擦学性能 | 第44-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 单质Mo/W对Ni55复合渗硫层组织性能的影响 | 第48-65页 |
| 4.1 试验工艺研究 | 第48-52页 |
| 4.1.1 Ni55+W离子渗硫工艺 | 第48-49页 |
| 4.1.2 Ni55+Mo离子渗硫工艺 | 第49-50页 |
| 4.1.3 Ni55+Mo+W离子渗硫工艺 | 第50-52页 |
| 4.1.4 讨论 | 第52页 |
| 4.2 硫化物复合层组织结构研究 | 第52-58页 |
| 4.2.1 复合层微观形貌 | 第53页 |
| 4.2.2 复合层物相组成 | 第53-55页 |
| 4.2.3 复合层成分及化合价态 | 第55-58页 |
| 4.3 干摩擦条件下复合层的摩擦学性能 | 第58-62页 |
| 4.4 讨论 | 第62-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 WC对Ni55复合渗硫层组织性能的影响 | 第65-78页 |
| 5.1 复合层表征分析 | 第65-72页 |
| 5.1.1 激光熔覆层组织结构分析 | 第65-67页 |
| 5.1.2 离子渗硫层组织结构分析 | 第67-72页 |
| 5.2 干摩擦条件下复合层的摩擦学性能 | 第72-76页 |
| 5.3 讨论 | 第76-77页 |
| 5.4 本章小结 | 第77-78页 |
| 结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
