高硬氮氧化铪薄膜的制备及性能表征
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景 | 第9-10页 |
| 1.2 薄膜制备方法的研究概况 | 第10-13页 |
| 1.3 HfO_2及 HfN 的基本性质 | 第13-14页 |
| 1.3.1 HfO_2的基本性质 | 第13-14页 |
| 1.3.2 HfN 的基本性质 | 第14页 |
| 1.4 宽波段透过保护薄膜的研究进展 | 第14-16页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 薄膜的制备及表征方法 | 第18-27页 |
| 2.1 薄膜的制备系统及原理 | 第18-21页 |
| 2.1.1 薄膜的制备系统 | 第18页 |
| 2.1.2 磁控溅射原理 | 第18-20页 |
| 2.1.3 沉积过程 | 第20-21页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第21-24页 |
| 2.2.1 工艺参数选择 | 第21-24页 |
| 2.2.2 薄膜制备过程 | 第24页 |
| 2.3 实验表征方法 | 第24-26页 |
| 2.3.1 表面轮廓仪 | 第24-25页 |
| 2.3.2 掠入射 X 射线衍射(GIXRD) | 第25页 |
| 2.3.3 X 射线光电子能谱(XPS) | 第25页 |
| 2.3.4 傅里叶变换红外光谱（FTIR） | 第25页 |
| 2.3.5 椭圆偏振分析 | 第25-26页 |
| 2.3.6 纳米压痕 | 第26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 薄膜的组分及结构研究 | 第27-48页 |
| 3.1 薄膜厚度分析 | 第27-28页 |
| 3.2 薄膜的组分分析 | 第28-33页 |
| 3.3 薄膜的结构分析 | 第33-40页 |
| 3.3.1 HfO_2薄膜 | 第33-38页 |
| 3.3.2 HfN_xO_y薄膜 | 第38-40页 |
| 3.4 傅里叶变换红外光谱（FTIR）分析 | 第40-42页 |
| 3.5 薄膜中的键合状态分析 | 第42-47页 |
| 3.6 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 薄膜的性能表征 | 第48-61页 |
| 4.1 薄膜应力分析 | 第48-51页 |
| 4.2 薄膜硬度分析 | 第51-54页 |
| 4.3 薄膜光学性能分析 | 第54-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
