| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 红外辐射基本概念 | 第11-12页 |
| 1.3 高发射率材料应用及研究状况 | 第12-17页 |
| 1.3.1 高发射率材料研究现状 | 第12-15页 |
| 1.3.2 高发射率材料制备方法及问题 | 第15-16页 |
| 1.3.3 高发射率材料应用 | 第16-17页 |
| 1.4 微弧氧化技术及尺寸效应概述 | 第17-19页 |
| 1.4.1 微弧氧化技术简介 | 第17页 |
| 1.4.2 微弧氧化技术特点及应用 | 第17-18页 |
| 1.4.3 微弧氧化反应中的尺寸效应 | 第18-19页 |
| 1.5 本课题主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第20-27页 |
| 2.1 实验材料及药品 | 第20-21页 |
| 2.2 实验设备及工艺 | 第21-23页 |
| 2.2.1 微弧氧化装置 | 第21-22页 |
| 2.2.2 微弧氧化电源 | 第22页 |
| 2.2.3 试样的制备 | 第22-23页 |
| 2.3 膜层的表征手段 | 第23-24页 |
| 2.3.1 膜层厚度及粗糙度测试 | 第23页 |
| 2.3.2 XRD 物相分析 | 第23-24页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜(SEM)表面形貌分析 | 第24页 |
| 2.3.4 EDS 能谱分析 | 第24页 |
| 2.4 膜层的性能分析测试 | 第24-27页 |
| 2.4.1 膜层的剪切强度分析 | 第24-25页 |
| 2.4.2 膜层的发射率测试 | 第25-27页 |
| 第3章 钛合金微弧氧化高发射率膜层制备 | 第27-44页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 微弧氧化膜层制备及主盐体系选择 | 第27-35页 |
| 3.2.1 磷酸盐电解液 MAO 膜层制备与表征 | 第27-31页 |
| 3.2.2 硅酸盐电解液 MAO 膜层制备与表征 | 第31-34页 |
| 3.2.3 MAO 膜层表面粗糙度与发射率的关系 | 第34-35页 |
| 3.3 磷酸盐主盐体系中高发射率膜层制备 | 第35-38页 |
| 3.3.1 电解液中添加铝酸盐对膜层组成及形貌的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.2 电解液中添加铬酸盐对膜层组成及形貌的影响 | 第36-38页 |
| 3.4 磷酸盐主盐体系形成膜层热辐射性能分析 | 第38-39页 |
| 3.4.1 电解液中添加铝酸盐形成膜层热辐射性能分析 | 第38页 |
| 3.4.2 电解液中添加铬酸盐形成膜层热辐射性能分析 | 第38-39页 |
| 3.5 溶胶凝胶法高发射率膜层制备 | 第39-41页 |
| 3.6 溶胶凝胶法高发射率膜层性能分析 | 第41-42页 |
| 3.7 本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 微弧氧化膜层制备中面积效应研究 | 第44-65页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 恒压放大中膜层面积效应研究 | 第44-54页 |
| 4.2.1 等比例放大电解液体积下的面积效应 | 第45-49页 |
| 4.2.2 恒定电解液体积下的面积效应 | 第49-52页 |
| 4.2.3 反应时间对等比例放大中 MAO 膜层影响 | 第52-54页 |
| 4.3 恒电流密度放大中膜层面积效应研究 | 第54-61页 |
| 4.3.1 恒流放大中电化学参数变化 | 第54-56页 |
| 4.3.2 恒流放大中膜层粗糙度及表面形貌变化 | 第56-58页 |
| 4.3.3 恒流放大中膜层物相变化 | 第58页 |
| 4.3.4 恒流放大中膜层剪切强度变化 | 第58-59页 |
| 4.3.5 恒流放大中膜层厚度变化及拟合 | 第59-61页 |
| 4.4 恒功率放大中膜层面积效应研究 | 第61-62页 |
| 4.5 不同放大工艺下膜层均匀性 | 第62-63页 |
| 4.6 本章小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
