| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-12页 |
| 1.1.1 多晶硅及其应用 | 第10页 |
| 1.1.2 多晶硅国内外行业简介 | 第10-12页 |
| 1.2 多晶硅生产工艺 | 第12-21页 |
| 1.2.1 杜邦法 | 第12-13页 |
| 1.2.2 贝尔法 | 第13-15页 |
| 1.2.3 西门子法 | 第15-16页 |
| 1.2.4 硅烷法 | 第16-20页 |
| 1.2.4.1 硅化镁法 | 第17页 |
| 1.2.4.2 UCC歧化法 | 第17-19页 |
| 1.2.4.3 新硅烷法 | 第19-20页 |
| 1.2.5 冶金法 | 第20-21页 |
| 1.3 改良西门子法产品中杂质 | 第21-23页 |
| 1.3.1 多晶硅产品中的杂质类型 | 第21页 |
| 1.3.2 杂质的来源 | 第21-22页 |
| 1.3.3 硼、磷杂质 | 第22-23页 |
| 1.4 氯硅烷中硼、磷杂质高效分离工艺研究进展 | 第23-27页 |
| 1.4.1 部分水解法 | 第23页 |
| 1.4.2 络合法 | 第23-25页 |
| 1.4.3 吸附法 | 第25-27页 |
| 1.5 本文的研究目的 | 第27-28页 |
| 第二章 氯硅烷中硼磷杂质分离工艺模拟 | 第28-39页 |
| 2.1 化工流程模拟软件Aspen plus的介绍 | 第28-29页 |
| 2.2 氯硅烷精制料中硼磷杂质分离工艺流程的建立 | 第29-30页 |
| 2.2.1 氯硅烷精制料进料及组成 | 第29页 |
| 2.2.2 工艺流程 | 第29-30页 |
| 2.3 氯硅烷精制料中硼磷杂质分离工艺简捷模拟 | 第30-32页 |
| 2.3.1 物性方法选择 | 第30-31页 |
| 2.3.2 操作压力的确定 | 第31页 |
| 2.3.3 简捷设计计算 | 第31-32页 |
| 2.4 氯硅烷精制料中硼磷杂质分离工艺严格模拟 | 第32-36页 |
| 2.4.1 塔板数与精制氯硅烷中硼磷杂质组分质量分数关系 | 第32-33页 |
| 2.4.2 进料位置优化选择 | 第33-35页 |
| 2.4.3 回流比优化选择 | 第35-36页 |
| 2.5 氯硅烷精制料中硼磷杂质分离工艺模拟优化结果 | 第36-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 络合法除氯硅烷中硼磷杂质的研究 | 第39-46页 |
| 3.1 实验准备部分 | 第39-41页 |
| 3.1.1 络合剂的选择 | 第39-40页 |
| 3.1.2 氯硅烷中痕量硼、磷杂质的检测方法 | 第40-41页 |
| 3.2 主要试剂与仪器 | 第41-42页 |
| 3.2.1 主要试剂 | 第41-42页 |
| 3.2.2 主要仪器 | 第42页 |
| 3.3 实验方法 | 第42-43页 |
| 3.3.1 络合剂的预处理 | 第42-43页 |
| 3.3.2 不同络合剂的络合除硼磷第一次探索实验 | 第43页 |
| 3.3.3 不同络合剂的络合除硼磷第二次探索实验 | 第43页 |
| 3.4 实验结果分析 | 第43-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 吸附法除氯硅烷中硼磷杂质的研究 | 第46-65页 |
| 4.1 实验准备部分 | 第46-52页 |
| 4.1.1 吸附的基本原理 | 第46-47页 |
| 4.1.2 吸附剂的选择 | 第47-50页 |
| 4.1.3 活性炭的改性制备 | 第50-51页 |
| 4.1.4 活性氧化铝的改性制备 | 第51页 |
| 4.1.5 吸附树脂的预处理 | 第51-52页 |
| 4.2 实验试剂与仪器 | 第52-54页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第52-53页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第53-54页 |
| 4.3 静态吸附除氯硅烷中硼磷杂质的实验设计与分析 | 第54-55页 |
| 4.3.1 含硼磷杂质的氯硅烷的配制 | 第54页 |
| 4.3.2 实验方法 | 第54页 |
| 4.3.3 实验结果分析 | 第54-55页 |
| 4.4 动态吸附除氯硅烷中硼磷杂质的实验设计与分析 | 第55-63页 |
| 4.4.1 第一次动态吸附除三氯氢硅中硼磷杂质实验设计与分析 | 第55-57页 |
| 4.4.1.1 实验流程 | 第55-56页 |
| 4.4.1.2 实验结果分析 | 第56-57页 |
| 4.4.2 第二次动态吸附除三氯氢硅中硼磷杂质实验设计与分析 | 第57-59页 |
| 4.4.2.1 实验流程 | 第57-58页 |
| 4.4.2.2 实验结果分析 | 第58-59页 |
| 4.4.3 第三次动态吸附除三氯氢硅中硼磷杂质实验设计与分析 | 第59-63页 |
| 4.4.3.1 实验流程 | 第59-61页 |
| 4.4.3.2 实验结果分析 | 第61-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
