多铁性磁电复合薄膜的制备与表征
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 磁电效应与多铁性材料概述 | 第10-12页 |
| 1.3 磁电材料的研究进展 | 第12-20页 |
| 1.3.1 单相多铁性材料及其研究进展 | 第13-14页 |
| 1.3.2 复合多铁性材料及其研究进展 | 第14-16页 |
| 1.3.3 磁电复合薄膜及其研究进展 | 第16-20页 |
| 1.4 磁电材料的应用 | 第20-23页 |
| 1.4.1 微波器件 | 第21-22页 |
| 1.4.2 磁电电流传感器 | 第22页 |
| 1.4.3 磁电变压器 | 第22-23页 |
| 1.5 本文的选题背景 | 第23-26页 |
| 1.5.1 铁电相—钛酸锶钡简介 | 第23-24页 |
| 1.5.2 铁磁相—镍锌铁氧体简介 | 第24-26页 |
| 1.6 组织结构 | 第26-28页 |
| 第二章 实验方法及表征技术 | 第28-41页 |
| 2.1 薄膜制备方法简介 | 第28-36页 |
| 2.1.1 溶胶凝胶法（Sol-Gel） | 第28-32页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积法（PLD） | 第32-33页 |
| 2.1.3 磁控溅射法（MS） | 第33-35页 |
| 2.1.4 化学气相沉积法（CVD） | 第35-36页 |
| 2.2 薄膜晶体结构表征 | 第36-39页 |
| 2.2.1 X射线衍射 | 第36-38页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第38页 |
| 2.2.3 台阶仪 | 第38-39页 |
| 2.3 薄膜性能测试 | 第39-41页 |
| 2.3.1 铁电性能测试 | 第39-40页 |
| 2.3.2 铁磁性能测试 | 第40-41页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备单相BST铁电薄膜 | 第41-52页 |
| 3.1 BST薄膜的制备 | 第41-44页 |
| 3.2 BST薄膜的表征 | 第44页 |
| 3.3 BST薄膜的晶体结构 | 第44-46页 |
| 3.3.1 XRD物相结构 | 第44-45页 |
| 3.3.2 衍射峰强度分析 | 第45-46页 |
| 3.4 BST薄膜的铁电性能 | 第46-51页 |
| 3.4.1 退火温度对薄膜铁电性的影响 | 第46-47页 |
| 3.4.2 涂膜层数对薄膜铁电性的影响 | 第47-48页 |
| 3.4.3 溶胶浓度对薄膜铁电性的影响 | 第48-50页 |
| 3.4.4 薄膜的漏电流（I-V）特性 | 第50-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 溶胶凝胶法制备单相NFO磁电薄膜 | 第52-59页 |
| 4.1 溶胶-凝胶法制备单相NZF磁电薄膜 | 第52-53页 |
| 4.2 NZF薄膜的表征 | 第53-54页 |
| 4.3 NZF薄膜的晶体结构 | 第54-57页 |
| 4.3.1 XRD图谱 | 第54-55页 |
| 4.3.2 衍射峰强度分析 | 第55-56页 |
| 4.3.3 结晶结构 | 第56-57页 |
| 4.4 铁磁性能 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 溶胶凝胶法制备BST-NZF磁电复合薄膜 | 第59-72页 |
| 5.1 BST/NZF复合薄膜的制备 | 第59-60页 |
| 5.2 BST/NZF复合薄膜的表征 | 第60-61页 |
| 5.3 BST/NZF复合薄膜的晶体结构 | 第61-63页 |
| 5.3.1 XRD图谱 | 第61-62页 |
| 5.3.2 AFM形貌图 | 第62-63页 |
| 5.4 BST/NZF复合薄膜的铁电性能 | 第63-67页 |
| 5.4.1 退火温度对复合薄膜铁电性的影响 | 第63-64页 |
| 5.4.2 退火时间对复合薄膜铁电性的影响 | 第64-66页 |
| 5.4.3 复合薄膜的漏电流（I-V）特性 | 第66-67页 |
| 5.5 BST/NZF复合薄膜的铁磁性能 | 第67-69页 |
| 5.6 BST/NZF复合薄膜磁电性能的理论分析 | 第69-71页 |
| 5.6.1 不考虑衬底夹持效应 | 第69-70页 |
| 5.6.2 考虑衬底夹持效应 | 第70-71页 |
| 5.7 本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 在校期间发表的期刊论文 | 第80页 |
