摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
创新点摘要 | 第7-10页 |
前言 | 第10-11页 |
第一章 文献综述 | 第11-24页 |
1.1 光催化技术简介 | 第11-14页 |
1.1.1 光催化反应基本原理 | 第11-12页 |
1.1.2 光催化技术实际应用 | 第12-14页 |
1.2 光催化剂的发展历史及研究现状 | 第14页 |
1.3 光催化剂的制备方法 | 第14-18页 |
1.4 光催化剂的改性方法 | 第18-20页 |
1.4.1 贵金属沉积改性 | 第18-19页 |
1.4.2 金属离子掺杂改性 | 第19-20页 |
1.4.3 半导体复合 | 第20页 |
1.5 杂多酸简介及发展史 | 第20-22页 |
1.6 选题的目的、意义和研究内容 | 第22-24页 |
第二章 催化剂的制备表征 | 第24-29页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第24-25页 |
2.1.1 实验试剂 | 第24页 |
2.1.2 实验仪器 | 第24-25页 |
2.2 催化剂的制备与表征 | 第25-29页 |
2.2.1 催化剂的制备 | 第25-26页 |
2.2.2 催化剂的表征 | 第26页 |
2.2.3 催化剂性能评价 | 第26-29页 |
第三章 HPA/Bi_2WO_6光催化剂的制备及其脱氮性能研究 | 第29-43页 |
3.1 不同表面活性剂修饰的钨酸铋 | 第29-34页 |
3.1.1 光催化剂的晶型分析 | 第29页 |
3.1.2 光催化剂的形貌分析 | 第29-31页 |
3.1.3 光催化剂的比表面积及孔径分布分析 | 第31-33页 |
3.1.4 Bi_2WO_6的傅里叶红外光谱分析 | 第33-34页 |
3.2 HPA/Bi_2WO_6光催化剂的制备与表征分析 | 第34-38页 |
3.2.1 固载方法对催化剂晶型及晶貌的影响 | 第34-35页 |
3.2.2 催化剂表面酸强度和酸量分析 | 第35-37页 |
3.2.3 催化剂光激发活性分析 | 第37-38页 |
3.3 超临界CO_2干燥HPA/Bi_2WO_6光催化剂及对其形貌的影响 | 第38-40页 |
3.3.1 超临界CO_2干燥装置 | 第38页 |
3.3.2 不同干燥方法对催化剂形貌的影响 | 第38-39页 |
3.3.3 不同干燥方法对催化剂比表面积及孔径的影响 | 第39-40页 |
3.4 HPA/Bi_2WO_6光催化剂的脱氮性能考察 | 第40-42页 |
3.4.1 杂多酸种类和固载量对催化剂脱氮性能的影响 | 第40-41页 |
3.4.2 催化剂用量对模拟油脱氮率的影响 | 第41-42页 |
3.5 本章小结 | 第42-43页 |
第四章 微波液相法一步合成光催化剂及其脱氮性能研究 | 第43-56页 |
4.1 H_3PW_(12)O_(40)/Bi_2WO_6光催化剂的合成与表征分析 | 第43-52页 |
4.1.1 合成催化剂H_3PW_(12)O_(40)/Bi_2WO_6所采用的装置 | 第43页 |
4.1.2 微波反应时间对Bi_2WO_6光催化剂晶型及晶貌的影响 | 第43-45页 |
4.1.3 H_3PW_(12)O_(40)的固载量对光催化剂晶型和晶貌的影响 | 第45-47页 |
4.1.4 H_3PW_(12)O_(40)的固载量对光催化剂表面酸量和表面酸强度影响 | 第47-48页 |
4.1.5 光催化剂在模拟油中与碱性氮化物模型吡啶作用方式的研究 | 第48-49页 |
4.1.6 H_3PW_(12)O_(40)对光催化剂比表面积及孔径分布的影响 | 第49-50页 |
4.1.7 H_3PW_(12)O_(40)对Bi_2WO_6光催化剂光激发活性的影响 | 第50-52页 |
4.2 不同条件下的光催化剂的脱氮性能研究 | 第52-54页 |
4.2.1 反应时间及H_3PW_(12)O_(40)固载量对光催化剂脱氮性能的影响 | 第52-53页 |
4.2.2 反应时间及催化剂与模拟油质量比对光催化剂脱氮性能的影响 | 第53-54页 |
4.2.3 循环使用次数对催化剂脱氮性能的影响(T) | 第54页 |
4.3 本章小结 | 第54-56页 |
结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
发表文章目录 | 第64-66页 |
致谢 | 第66-67页 |