| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 水体中重金属污染现状及其治理技术 | 第9-12页 |
| 1.1.1 水体中重金属污染现状 | 第9页 |
| 1.1.2 汞的来源及危害 | 第9-10页 |
| 1.1.3 镍的来源及危害 | 第10页 |
| 1.1.4 铅的来源及危害 | 第10页 |
| 1.1.5 水体中重金属的处理技术 | 第10-12页 |
| 1.2 印迹聚合物 | 第12-18页 |
| 1.2.1 分子印迹技术 | 第12-14页 |
| 1.2.2 离子印迹技术及其原理 | 第14-18页 |
| 1.3 磁性离子印迹聚合物 | 第18页 |
| 1.4 本论文研究的内容和意义 | 第18-20页 |
| 第二章 镍离子印迹聚合物的合成及选择性去除镍性能的研究 | 第20-39页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 实验部分 | 第20-22页 |
| 2.2.1 实验仪器和设备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 实验试剂 | 第21-22页 |
| 2.3 镍离子印迹聚合物Ni(Ⅱ)-ⅡP的合成 | 第22页 |
| 2.4 Ni(Ⅱ)-ⅡP吸附性能的研究 | 第22-24页 |
| 2.4.1 等温吸附研究 | 第22-23页 |
| 2.4.2 动力学吸附研究 | 第23页 |
| 2.4.3 pH对吸附容量的影响 | 第23页 |
| 2.4.4 选择性吸附研究 | 第23页 |
| 2.4.5 实际废水的应用 | 第23-24页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第24-38页 |
| 2.5.1 镍离子印迹聚合物Ni(Ⅱ)-ⅡP的合成 | 第24-25页 |
| 2.5.2 扫描电镜分析 (SEM) | 第25页 |
| 2.5.3 能谱分析 (EDS) | 第25-26页 |
| 2.5.4 X射线光电子能谱（XPS） | 第26-28页 |
| 2.5.5 热重分析 (TGA) | 第28页 |
| 2.5.6 吸附实验 | 第28-38页 |
| 2.6 小结 | 第38-39页 |
| 第三章 铅离子印迹聚合物的合成及选择性去除铅性能的研究 | 第39-55页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 实验试剂 | 第39-40页 |
| 3.3 铅离子印迹聚合物Pb(Ⅱ)-ⅡP的合成 | 第40页 |
| 3.4 Pb(Ⅱ)-ⅡP吸附性能的研究 | 第40-41页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第41-54页 |
| 3.5.1 铅离子印迹聚合物Pb(Ⅱ)-ⅡP的合成 | 第41-42页 |
| 3.5.2 扫描电镜分析 (SEM) | 第42页 |
| 3.5.3 X射线光电子能谱（XPS） | 第42-43页 |
| 3.5.4 能谱分析 (EDS) | 第43-44页 |
| 3.5.5 热重分析 (TGA) | 第44-45页 |
| 3.5.6 比表面测定 (BET) | 第45-46页 |
| 3.5.7 吸附实验 | 第46-54页 |
| 3.6 小结 | 第54-55页 |
| 第四章 磁性汞离子印迹聚合物的合成及选择性除汞的研究 | 第55-76页 |
| 4.1 引言 | 第55-56页 |
| 4.2 实验部分 | 第56页 |
| 4.2.1 实验仪器和设备 | 第56页 |
| 4.2.2 实验试剂 | 第56页 |
| 4.3 磁性汞离子印迹聚合物MⅡP的合成 | 第56-58页 |
| 4.3.1 磁性纳米粒子Fe_3O_4的制备 | 第56-57页 |
| 4.3.2 Fe_3O_4@SiO_2的制备 | 第57页 |
| 4.3.3 Fe_3O_4@SiO_2-MH的制备 | 第57页 |
| 4.3.4 磁性汞离子印迹聚合物的合成 (MⅡP) | 第57-58页 |
| 4.4 磁性汞离子印迹聚合物MⅡP去除汞性能的研究 | 第58-59页 |
| 4.4.1 吸附性能的研究 | 第58-59页 |
| 4.4.2 吸附-脱附循环的研究 | 第59页 |
| 4.5 实验结果与讨论 | 第59-74页 |
| 4.5.1 磁性汞离子印迹聚合物MⅡP的表征 | 第59-63页 |
| 4.5.2 吸附实验 | 第63-74页 |
| 4.6 小结 | 第74-76页 |
| 第五章 结论与展望 | 第76-78页 |
| 5.1 结论 | 第76-77页 |
| 5.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
