首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工程材料学论文--特种结构材料论文

纳米结构二氧化锡材料光电性能的研究

摘要第1-9页
Abstract第9-11页
第一章 绪论第11-19页
   ·引言第11-12页
   ·研究现状第12-16页
   ·研究内容与展望第16-19页
第二章 理论基础第19-23页
   ·密度泛函理论介绍第19-21页
     ·多粒子体系薛定谔方程第19-20页
     ·Hohenberg-Kohn定理第20页
     ·Kohn-Sham方程第20-21页
   ·交换关联能近似第21-22页
     ·局域密度近似(Local Density Approximation, LDA)第21-22页
     ·广义梯度近似(Generalized Gradient Approximation, GGA)第22页
   ·平面波基组和赝势第22-23页
第三章 锆、氮掺杂二氧化锡的电子结构和光学性质第23-31页
   ·本章引言第23页
   ·理论模型的建立和计算方法第23-25页
   ·电子结构第25-28页
     ·电子态密度第25-26页
     ·能带结构分析第26-28页
   ·光学性质第28-29页
     ·介电函数第28-29页
   ·本章小结第29-31页
第四章 银掺杂和氧缺陷二氧化锡纳米面模型的电子结构和光学性质第31-43页
   ·本章引言第31页
   ·模型建立及计算方法第31-32页
   ·几何优化和稳定性第32-33页
   ·电子态密度第33-36页
   ·能带结构第36-37页
   ·光学性质第37-42页
     ·介电函数和光学吸收系数第37-40页
     ·能量损失谱、反射谱和折射谱第40-42页
   ·结论第42-43页
第五章 银掺杂二氧化锡纳米带模型的电子结构和光学性质第43-53页
   ·本章引言第43页
   ·理论参数和计算方法第43-44页
   ·纳米带模型构建和带隙的调节第44-45页
   ·能带结构和电子态密度第45-48页
   ·光学性质第48-50页
   ·键能第50-51页
   ·本章小结第51-53页
第六章 外电场以及氢修饰对不同二氧化锡纳米带电子结构和带隙的调控第53-67页
   ·本章引言第53-54页
   ·模型建立和计算方法第54-55页
   ·不同构型纳米带材料稳定性研究第55-56页
   ·没有H修饰时电场引进对材料带隙的调节第56-59页
   ·H修饰后和加电场对纳米带带隙的调控第59-63页
   ·纳米带的输运第63-64页
   ·本章小结第64-67页
第七章 结论和展望第67-69页
参考文献第69-77页
致谢第77-79页
附录第79页

论文共79页,点击 下载论文
上一篇:聚偏氟乙烯膜亲水性研究
下一篇:二氯甲烷与含硫亲核试剂的反应研究及Pd催化的叔胺脱甲基化研究