氧化锡纳米结构材料的制备及其光电性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-34页 |
| ·纳米技术的基本概念和发展历程简述 | 第10-13页 |
| ·纳米技术的基本概念 | 第10-12页 |
| ·纳米技术发展历程 | 第12-13页 |
| ·纳米技术的主要应用 | 第13-21页 |
| ·在能源领域的应用 | 第14-16页 |
| ·在环境领域的应用 | 第16-17页 |
| ·在医药方面的应用 | 第17页 |
| ·在信息技术领域的应用 | 第17-18页 |
| ·在工业上的应用 | 第18-21页 |
| ·氧化锡纳米结构的研究进展 | 第21-28页 |
| ·氧化锡纳米结构的形貌和结构 | 第21-23页 |
| ·氧化锡纳米结构的场发射性质 | 第23-26页 |
| ·氧化锡纳米结构的气敏特性 | 第26-28页 |
| ·本论文研究内容及展望 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-34页 |
| 第二章 纳米材料的主要制备和表征方法 | 第34-51页 |
| ·纳米材料的主要制备方法 | 第34-38页 |
| ·气相法 | 第34-35页 |
| ·液相法 | 第35-37页 |
| ·模板法 | 第37-38页 |
| ·纳米材料的主要表征方法 | 第38-49页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第38-40页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第40-41页 |
| ·扫描隧道显微镜（STM） | 第41-43页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第43-45页 |
| ·拉曼散射和光致发光（PL）光谱仪 | 第45-47页 |
| ·X射线衍射(XRD)光谱 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第三章 有序氧化锡多孔薄膜的制备和表征 | 第51-65页 |
| ·多孔阳极氧化铝的制备 | 第51-55页 |
| ·阳极氧化 | 第51页 |
| ·形成机理 | 第51-52页 |
| ·制备工艺 | 第52-54页 |
| ·多孔阳极氧化铝样品的制备 | 第54-55页 |
| ·有序多孔氧化锡薄膜的制备 | 第55-64页 |
| ·磁控溅射的原理和装置 | 第55-59页 |
| ·有序多孔氧化锡薄膜的制备方法 | 第59-61页 |
| ·有序氧化锡多孔膜的表征 | 第61-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第四章 有序氧化锡多孔薄膜的紫外和湿敏特性 | 第65-75页 |
| ·有序SnO_x纳米多孔膜的紫外特性 | 第65-70页 |
| ·半导体氧化物紫外探测机制 | 第65-66页 |
| ·有序SnO_x纳米多孔膜的I-V特性 | 第66-67页 |
| ·有序SnO_x纳米多孔膜的紫外特性 | 第67-70页 |
| ·有序SnO_x纳米多孔膜的湿敏特性 | 第70-74页 |
| ·半导体氧化物湿敏探测机制 | 第70-71页 |
| ·有序SnO_x纳米多孔膜的湿敏特性 | 第71-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 第五章 氧化锡纳米管/纳米线的制备和表征 | 第75-83页 |
| ·引言 | 第75-76页 |
| ·磁控溅射制备氧化锡纳米管/纳米线阵列 | 第76-81页 |
| ·实验设想 | 第76-77页 |
| ·实验过程 | 第77页 |
| ·实验结果 | 第77-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 第六章 结论 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第85-87页 |
