| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-19页 |
| ·光的散射与拉曼光谱 | 第7-8页 |
| ·表面增强拉曼散射 | 第8-13页 |
| ·SERS 增强机理 | 第9-12页 |
| ·SERS 应用 | 第12-13页 |
| ·SERS 基底制备的国内外研究现状 | 第13-17页 |
| ·本论文的研究目的及设想 | 第17-19页 |
| 第二章 金属微结构的光学性质及 FDTD 电磁模拟 | 第19-28页 |
| ·FDTD 简介 | 第19-20页 |
| ·拉曼增强基底微结构的光学模拟 | 第20-27页 |
| ·本章总结 | 第27-28页 |
| 第三章 FIB 制备 SiO2/Au 基底 | 第28-40页 |
| ·聚焦离子束加工技术 | 第28-32页 |
| ·聚焦离子束系统 | 第28-29页 |
| ·聚焦离子束加工原理 | 第29-32页 |
| ·FIB 制备 SERS 基底及工艺优化 | 第32-35页 |
| ·拉曼测试与结果分析 | 第35-39页 |
| ·拉曼光谱仪简介 | 第35-37页 |
| ·不同组合下拉曼光谱 | 第37-38页 |
| ·不同加工深度下拉曼光谱 | 第38-39页 |
| ·本章总结 | 第39-40页 |
| 第四章 FIB 制备 Si/Au 拉曼增强基底 | 第40-53页 |
| ·椭圆阵列 SERS 基底的制备 | 第40-44页 |
| ·三角形阵列拉曼增强基底的制备 | 第44-51页 |
| ·组合 | 第44-45页 |
| ·尺寸 | 第45-46页 |
| ·加工深度 | 第46-51页 |
| ·检测极限 | 第51页 |
| ·本章总结 | 第51-53页 |
| 第五章 电子束诱导 Pt 沉积加工 SERS 基底 | 第53-63页 |
| ·Pt 沉积原理 | 第53-54页 |
| ·Pt 沉积参数的选择 | 第54-56页 |
| ·纳米柱阵列的加工 | 第56-61页 |
| ·检测极限 | 第61-62页 |
| ·本章总结 | 第62-63页 |
| 第六章 基底的表征 | 第63-70页 |
| ·拉曼增强因子的计算 | 第63-66页 |
| ·SERS 基底的重复性表征 | 第66-69页 |
| ·本章总结 | 第69-70页 |
| 第七章 结论与展望 | 第70-72页 |
| ·结论 | 第70-71页 |
| ·工作展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |