| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-36页 |
| ·课题研究背景 | 第10-11页 |
| ·TiO_2光催化材料的结构与性质 | 第11-14页 |
| ·TiO_2光催化材料结构 | 第11-13页 |
| ·TiO_2光催化材料性质 | 第13-14页 |
| ·TiO_2纳米薄膜制备方法研究进展 | 第14-25页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第14-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16-18页 |
| ·水热法 | 第18-20页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第21-25页 |
| ·不同 TiO_2薄膜制备方法比较 | 第25页 |
| ·TiO_2纳米薄膜的应用研究进展 | 第25-33页 |
| ·工业废水处理 | 第26-27页 |
| ·自清洁材料 | 第27-29页 |
| ·抗菌材料 | 第29-30页 |
| ·室内空气净化 | 第30-31页 |
| ·染料敏化太阳能电池 | 第31-33页 |
| ·课题意义与研究内容 | 第33-36页 |
| ·课题意义 | 第33页 |
| ·研究内容 | 第33-36页 |
| 第二章 对向靶磁控溅射 TiO_2纳米薄膜的制备及表征 | 第36-60页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·对向靶磁控溅射设备及工作原理 | 第36-40页 |
| ·对向靶磁控溅射设备 | 第36-38页 |
| ·对向靶磁控溅射原理 | 第38-40页 |
| ·溅射实验过程 | 第40-44页 |
| ·溅射实验材料与仪器 | 第40-42页 |
| ·溅射 TiO_2纳米薄膜实验过程 | 第42-44页 |
| ·TiO_2纳米薄膜的热处理 | 第44页 |
| ·TiO_2纳米薄膜表征方法 | 第44-49页 |
| ·台阶仪测量 | 第45页 |
| ·X 射线衍射 (XRD) | 第45-47页 |
| ·场发射电子扫描显微镜 (FE-SEM) | 第47页 |
| ·高分辨透射电子显微镜 (HR-TEM) | 第47-48页 |
| ·原子力显微镜 (AFM) | 第48页 |
| ·紫外-可见分光光度计 (UV-Vis) | 第48-49页 |
| ·溅射成膜过程 | 第49-52页 |
| ·溅射条件参数选择 | 第52-54页 |
| ·溅射功率选择 | 第52-53页 |
| ·退火温度选择 | 第53页 |
| ·Ar/O_2流量比选择 | 第53-54页 |
| ·溅射气压选择 | 第54页 |
| ·溅射功率对 TiO_2纳米薄膜制备的影响 | 第54-58页 |
| ·不同溅射功率条件下 TiO_2纳米薄膜样品制备 | 第54-55页 |
| ·溅射功率对 TiO_2纳米薄膜结构的影响 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第三章 退火温度对 TiO_2纳米薄膜结构、形貌及性能的影响 | 第60-76页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·不同退火温度条件下 TiO_2纳米薄膜样品制备 | 第60-61页 |
| ·退火温度对 TiO_2纳米薄膜结构及形貌的影响 | 第61-68页 |
| ·X 射线衍射（XRD）结果分析 | 第61-63页 |
| ·场发射电子扫描显微镜（FE-SEM）结果分析 | 第63-65页 |
| ·原子力显微镜（AFM）结果分析 | 第65-67页 |
| ·紫外可见透射光谱（UV-Vis）分析 | 第67-68页 |
| ·退火温度对 TiO_2纳米薄膜光催化性能的影响 | 第68-72页 |
| ·光催化实验材料与仪器 | 第68-70页 |
| ·光催化实验过程 | 第70-71页 |
| ·光催化实验结果与讨论 | 第71-72页 |
| ·退火温度对 TiO_2纳米薄膜光电性能的影响 | 第72-75页 |
| ·光电性能实验材料与装置 | 第72-73页 |
| ·光电性能实验过程 | 第73页 |
| ·光电性能实验结果与讨论 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第四章 Ar/O_2流量比对 TiO_2纳米薄膜结构、形貌及性能的影响 | 第76-92页 |
| ·引言 | 第76页 |
| ·不同 Ar/O_2流量比条件下 TiO_2纳米薄膜样品制备 | 第76-77页 |
| ·Ar/O_2流量比对 TiO_2纳米薄膜结构及形貌的影响 | 第77-86页 |
| ·台阶仪测量结果分析 | 第77-78页 |
| ·X 射线衍射（XRD）结果分析 | 第78-81页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）结果分析 | 第81-83页 |
| ·原子力显微镜（AFM）结果分析 | 第83-85页 |
| ·紫外可见透射光谱（UV-Vis）分析 | 第85-86页 |
| ·Ar/O_2流量比对 TiO_2纳米薄膜光催化性能的影响 | 第86-88页 |
| ·光催化试验过程 | 第86页 |
| ·光催化实验结果与讨论 | 第86-88页 |
| ·Ar/O_2流量比对 TiO_2纳米薄膜光电性能的影响 | 第88-91页 |
| ·光电性能实验过程 | 第88页 |
| ·光电性能实验结果与讨论 | 第88-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第五章 溅射气压对 TiO_2纳米薄膜结构、形貌及性能的影响 | 第92-112页 |
| ·引言 | 第92页 |
| ·不同溅射气压条件下 TiO_2纳米薄膜样品制备 | 第92-93页 |
| ·溅射气压对 TiO_2纳米薄膜结构及形貌的影响 | 第93-101页 |
| ·台阶仪测量结果分析 | 第93-94页 |
| ·X 射线衍射（XRD）结果分析 | 第94-96页 |
| ·高分辨透射电子显微镜（HR-TEM）结果分析 | 第96-98页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）结果分析 | 第98-99页 |
| ·原子力显微镜（AFM）结果分析 | 第99-101页 |
| ·光催化降解 IPA 反应机理及动力学分析 | 第101-109页 |
| ·光催化实验过程 | 第101-102页 |
| ·溅射气压对 TiO_2纳米薄膜光催化性能的影响 | 第102-103页 |
| ·TiO_2纳米薄膜光催化性能稳定性讨论 | 第103-105页 |
| ·光催化降解 IPA 机理分析 | 第105-108页 |
| ·光催化降解 IPA 反应动力学分析 | 第108-109页 |
| ·溅射气压对 TiO_2纳米薄膜光电性能的影响 | 第109-111页 |
| ·光电性能实验过程 | 第109页 |
| ·光电性能研究测试结果与讨论 | 第109-111页 |
| ·本章小结 | 第111-112页 |
| 第六章 结论与展望 | 第112-115页 |
| ·主要结论 | 第112-114页 |
| ·创新点 | 第114页 |
| ·建议与展望 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-130页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132页 |
