| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·纳米技术和微纳光学 | 第8-10页 |
| ·彩色滤光片的研究背景与发展现状 | 第10-18页 |
| ·彩色滤光片概述 | 第10-11页 |
| ·微纳结构彩色滤光片 | 第11-18页 |
| ·本论文的创新点及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 彩色滤光相关理论 | 第20-33页 |
| ·光波基本电磁理论 | 第20-21页 |
| ·麦克斯韦方程组和物质方程 | 第20-21页 |
| ·突变面处的边界条件 | 第21页 |
| ·表面等离激元 | 第21-26页 |
| ·一维亚波长光栅的严格耦合波分析 | 第26-33页 |
| 第三章 一维亚波长减色滤光片的设计 | 第33-54页 |
| ·颜色的混合原理 | 第33-38页 |
| ·一维双层介质-金属光栅结构减色滤光片模型建立和数值模拟分析 | 第38-53页 |
| ·关于 ELT 原理机制分析 | 第40-42页 |
| ·占空比 dc(duty cycle) 对 ELT 峰谷以及可见光波段透过率的影响 | 第42-44页 |
| ·光栅周期 P 对 ELT 峰谷以及可见光波段透过率的影响 | 第44-47页 |
| ·金属光栅层高度 h_1对 ELT 峰谷以及可见光波段透过率的影响 | 第47-49页 |
| ·介质光栅层高度 h 对 ELT 峰谷以及可见光波段透过率的影响 | 第49-51页 |
| ·介质光栅层折射率 nd 对 ELT 峰谷以及可见光波段透过率的影响 | 第51-52页 |
| ·减色滤光片加工工艺参数选择 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 一维亚波长金属减色滤光片的制作 | 第54-69页 |
| ·本实验技术路线 | 第54-55页 |
| ·光刻胶 | 第55页 |
| ·双光束干涉 | 第55-59页 |
| ·双光束干涉基本理论 | 第55-57页 |
| ·双光束干涉光学平台系统的搭建 | 第57-59页 |
| ·亚波长光栅掩膜制作 | 第59-66页 |
| ·制作光栅掩膜的工艺步骤 | 第59-60页 |
| ·驻波效应对曝光的影响 | 第60-61页 |
| ·光刻胶槽形的控制 | 第61-66页 |
| ·银金属层沉积 | 第66页 |
| ·光刻胶剥离 | 第66-67页 |
| ·光谱测试 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 总结与展望 | 第69-71页 |
| ·总结 | 第69页 |
| ·展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
