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F掺杂铈钛低温SCR催化剂的制备及脱硝性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-12页
1 绪论第12-27页
   ·课题研究背景第12-14页
     ·NO_x的来源第12页
     ·NO_x的危害第12-13页
     ·我国燃煤电厂NO_x的污染及排放现状第13-14页
   ·燃煤电厂NO_x减排控制技术第14-16页
     ·低NO_x燃烧技术第14页
     ·烟气脱硝技术第14-16页
   ·选择性催化还原(SCR)脱硝技术第16-21页
     ·SCR烟气脱硝技术的发展第16-17页
     ·SCR工艺系统的分类第17-19页
     ·SCR烟气脱硝技术原理第19-20页
     ·SCR催化反应的反应过程第20-21页
   ·低温SCR催化剂的研究进展第21-23页
     ·贵金属催化剂第21页
     ·分子筛催化剂第21-22页
     ·金属氧化物催化剂第22-23页
   ·非金属元素改性催化剂的研究进展第23-24页
     ·N掺杂改性第23页
     ·C掺杂改性第23-24页
     ·S掺杂改性第24页
     ·F掺杂改性第24页
   ·课题的研究目的、思路和主要内容第24-27页
     ·研究目的第24-25页
     ·研究思路第25页
     ·研究内容第25-27页
2 溶胶凝胶-浸渍法制备F掺杂CeO_2/TiO_2催化剂及脱硝性能研究第27-49页
   ·实验第27-29页
     ·实验试剂、气体及仪器第27-28页
     ·催化剂的制备第28页
     ·催化剂的活性评价装置第28-29页
   ·催化剂的表征方法第29-32页
     ·X射线衍射方法(XRD)第30页
     ·比表面积测试(BET)第30页
     ·光致发光光谱(PL)第30-31页
     ·X射线光电子能谱(XPS)第31页
     ·氨气程序升温脱附(NH_3-TPD)第31-32页
   ·催化剂组成和煅烧温度对脱硝性能的影响第32-35页
     ·F掺杂量对催化剂脱硝活性的影响第32页
     ·Ce含量对催化剂脱硝活性的影响第32-33页
     ·F掺杂量对催化剂NO氧化活性的影响第33-34页
     ·煅烧温度对催化剂脱硝活性的影响第34-35页
   ·催化剂组成对晶型的影响第35-37页
     ·F掺杂量对催化剂晶型的影响第35-36页
     ·Ce含量对催化剂晶型的影响第36-37页
   ·催化剂脱硝性能工艺条件的考察第37-41页
     ·空速对催化剂脱硝性能的影响第37-38页
     ·O_2浓度对催化剂脱硝性能的影响第38-39页
     ·[NH_3]/[NO]对催化剂脱硝性能的影响第39页
     ·SO_2对催化剂脱硝性能的影响第39-40页
     ·H_2O对催化剂脱硝性能的影响第40-41页
   ·催化剂物化性质的分析第41-47页
     ·催化剂的比表面积(BET)分析第41-42页
     ·光致发光谱(PL)分析第42-43页
     ·X射线光电子能谱(XPS)分析第43-46页
     ·NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD)分析第46-47页
   ·本章小结第47-49页
3 共沉淀法制备F掺杂CeO_2-TiO_2催化剂及脱硝性能研究第49-61页
   ·实验第49-50页
     ·实验试剂、气体及仪器第49页
     ·催化剂的制备方法第49-50页
     ·催化剂的活性评价装置第50页
   ·X射线衍射(XRD)表征第50页
   ·催化剂组成对脱硝性能的影响第50-52页
     ·F掺杂量对催化剂脱硝活性的影响第50-51页
     ·Ce含量对催化剂脱硝活性的影响第51-52页
   ·催化剂组成对晶型的影响第52-54页
     ·F掺杂量对催化剂晶型的影响第52-53页
     ·Ce含量对催化剂晶型的影响第53-54页
   ·催化剂脱硝性能工艺条件的考察第54-59页
     ·空速对催化剂脱硝性能的影响第54-55页
     ·O_2浓度对催化剂脱硝性能的影响第55-56页
     ·[NH_3]/[NO]对催化剂脱硝性能的影响第56-57页
     ·催化剂的稳定性实验第57页
     ·SO_2对催化剂脱硝性能的影响第57-58页
     ·H_2O对催化剂脱硝性能的影响第58-59页
   ·本章小结第59-61页
4 共沉淀法F掺杂CeO_2-TiO_2催化剂理化性质的分析和催化原理的研究第61-75页
   ·催化剂的表征第61-62页
     ·比表面积测试(BET)第61页
     ·光致发光光谱(PL)第61页
     ·拉曼光谱(Raman)第61页
     ·X射线光电子能谱(XPS)第61页
     ·氢气程序升温还原(H_2-TPR)第61-62页
     ·氨气程序升温脱附(NH_3-TPD)第62页
     ·原位红外光谱(DRIFTS)第62页
   ·F掺杂CeO_2-TiO_2催化剂理化性质的分析和催化原理的研究第62-73页
     ·催化剂的比表面积(BET)分析第62-64页
     ·催化剂的氧空位分析第64页
     ·催化剂的超氧自由基分析第64-65页
     ·催化剂的XPS分析第65-69页
     ·氢气程序升温还原(H_2-TPR)分析第69-70页
     ·氨气程序升温脱附(NH_3-TPD)分析第70-71页
     ·反应物NO和O_2在催化剂表面的吸附态研究(DRIFTS)第71-73页
   ·本章小结第73-75页
5 结论与展望第75-77页
   ·结论第75-76页
   ·主要创新点第76页
   ·展望第76-77页
致谢第77-78页
参考文献第78-86页
附录第86页

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