| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·气相沉积技术简介 | 第10-12页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第11页 |
| ·物理气相沉积技术 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射沉积技术 | 第12-16页 |
| ·溅射镀膜技术的发展概况 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射原理 | 第13-15页 |
| ·磁控设备简介 | 第15-16页 |
| ·溅射镀膜的工艺参数 | 第16页 |
| ·磁控溅射制备 CrN 基涂层研究概况 | 第16-22页 |
| ·CrN 涂层的结构与性能 | 第17页 |
| ·CrAlN 涂层的结构与性能 | 第17-20页 |
| ·CrAlN 涂层的微观结构 | 第18页 |
| ·CrAlN 涂层的力学性能 | 第18-19页 |
| ·CrAlN 涂层的热稳定性 | 第19页 |
| ·CrAlN 涂层的耐腐蚀性 | 第19页 |
| ·Cr1-xAlxN 涂层的电磁学性能 | 第19-20页 |
| ·CrN 基多元涂层 | 第20页 |
| ·CrN 基多层涂层 | 第20-21页 |
| ·CrN 基纳米结构涂层 | 第21页 |
| ·CrN 基梯度涂层 | 第21-22页 |
| ·课题研究的意义及主要内容 | 第22-23页 |
| 第2章 实验设备及方法 | 第23-31页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·实验前基体试样的预处理 | 第23页 |
| ·涂层沉积设备 | 第23-24页 |
| ·CrN 基涂层的制备 | 第24-25页 |
| ·CrN 涂层工艺的研究 | 第24-25页 |
| ·CrAlN 三元涂层的制备 | 第25页 |
| ·CrTiAlN 多元梯度涂层的制备 | 第25页 |
| ·显微结构表征 | 第25-26页 |
| ·形貌观察 | 第25页 |
| ·成分分析 | 第25页 |
| ·物相分析 | 第25-26页 |
| ·性能测试 | 第26-31页 |
| ·结合力 | 第26-27页 |
| ·显微硬度 | 第27-30页 |
| ·氧化性能 | 第30-31页 |
| 第3章 闭合场非平衡直流磁控溅射 CrN 涂层的研究 | 第31-57页 |
| ·工艺条件对 CrN 涂层的微观结构及力学性能的影响 | 第31-51页 |
| ·N_2流量比的影响 | 第31-37页 |
| ·实验方法 | 第31-32页 |
| ·实验结果与讨论 | 第32-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| ·基体温度的影响 | 第37-42页 |
| ·实验方法 | 第37页 |
| ·实验结果与讨论 | 第37-42页 |
| ·小结 | 第42页 |
| ·Cr 靶功率的影响 | 第42-46页 |
| ·实验方法 | 第42页 |
| ·实验结果与讨论 | 第42-46页 |
| ·小结 | 第46页 |
| ·基体偏压的影响 | 第46-51页 |
| ·实验方法 | 第46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-51页 |
| ·小结 | 第51页 |
| ·CrN 涂层在 700 和 800℃时的抗氧化性能 | 第51-56页 |
| ·实验结果与分析 | 第52-55页 |
| ·CrN 涂层的组织与形貌 | 第52-53页 |
| ·CrN 涂层的力学性能 | 第53-54页 |
| ·CrN 涂层的抗氧化性能 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 CrAlN 涂层在 800 和 900℃时对 K38G 高温合金氧化性能的影响 | 第57-63页 |
| ·实验方法 | 第57-58页 |
| ·实验结果与分析 | 第58-62页 |
| ·CrAlN 涂层的组织与形貌 | 第58-59页 |
| ·涂层的力学性能 | 第59页 |
| ·涂层的高温氧化性能 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 CrTiAlN 涂层在 800 和 900℃时对 H13 钢氧化性能的影响 | 第63-71页 |
| ·实验方法 | 第63-65页 |
| ·实验结果与分析 | 第65-69页 |
| ·CrTiAlN 涂层的组织与形貌 | 第65页 |
| ·涂层的力学性能 | 第65-66页 |
| ·涂层的抗高温氧化性能 | 第66-69页 |
| ·讨论 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第6章 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
