摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-16页 |
·课题来源 | 第10页 |
·研究的目的及意义 | 第10-11页 |
·研究的目的 | 第10页 |
·研究的意义 | 第10-11页 |
·真空镀膜设备的应用 | 第11-13页 |
·国内外研究的概况 | 第13-15页 |
·本章小结 | 第15-16页 |
第2章 磁控溅射离子镀膜机工件架子系统方案分析 | 第16-22页 |
·磁控溅射离子镀膜机工件架子系统设计的基本参数 | 第16页 |
·支撑点的换位和自转的设计 | 第16-19页 |
·支撑部件的方案确定 | 第16-17页 |
·换位方式的选择 | 第17-18页 |
·工件架自转部件的方案确定 | 第18-19页 |
·工件平移部件的方案确定 | 第19-20页 |
·负偏压部件的确定 | 第20-21页 |
·样品烘烤加热系统 | 第21页 |
·本章小结 | 第21-22页 |
第3章 磁控溅射离子镀膜机工件架子系统的研究与设计 | 第22-45页 |
·工件升降组件设计 | 第22-26页 |
·工件自转部件传动装置设计 | 第26-36页 |
·真空电机的选择 | 第26-28页 |
·传动轴运动参数 | 第28页 |
·齿轮传动设计 | 第28-34页 |
·传动的润滑方式 | 第34-36页 |
·工件平移组件设计 | 第36-39页 |
·负偏压设计 | 第39页 |
·三维装配设计 | 第39-44页 |
·Solid Works 软件简介 | 第39-42页 |
·自转升降部件、平移部件及整体三维装配图 | 第42-44页 |
·磁控溅射离子镀膜机工件架子系统样机 | 第44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第4章 真空磁控溅射镀膜室壳体有限元分析 | 第45-65页 |
·真空磁控溅射镀膜室壳体的结构设计 | 第45页 |
·真空磁控溅射镀膜室壳体的具体结构 | 第45-48页 |
·真空磁控溅射镀膜室壳体的有限元分析 | 第48-61页 |
·有限元法简介 | 第48-50页 |
·有限元法的基本思想 | 第50页 |
·有限元法求解的基本步骤 | 第50-53页 |
·真空室壳体的有限元分析过程 | 第53-61页 |
·镀膜室改进设计 | 第61-64页 |
·镀膜室改进结构 | 第61-62页 |
·有限元分析 | 第62-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第5章 结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
在学研究成果 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |