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磁控溅射离子镀膜机工件架系统设计

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-16页
   ·课题来源第10页
   ·研究的目的及意义第10-11页
     ·研究的目的第10页
     ·研究的意义第10-11页
   ·真空镀膜设备的应用第11-13页
   ·国内外研究的概况第13-15页
   ·本章小结第15-16页
第2章 磁控溅射离子镀膜机工件架子系统方案分析第16-22页
   ·磁控溅射离子镀膜机工件架子系统设计的基本参数第16页
   ·支撑点的换位和自转的设计第16-19页
     ·支撑部件的方案确定第16-17页
     ·换位方式的选择第17-18页
     ·工件架自转部件的方案确定第18-19页
   ·工件平移部件的方案确定第19-20页
   ·负偏压部件的确定第20-21页
   ·样品烘烤加热系统第21页
   ·本章小结第21-22页
第3章 磁控溅射离子镀膜机工件架子系统的研究与设计第22-45页
   ·工件升降组件设计第22-26页
   ·工件自转部件传动装置设计第26-36页
     ·真空电机的选择第26-28页
     ·传动轴运动参数第28页
     ·齿轮传动设计第28-34页
     ·传动的润滑方式第34-36页
   ·工件平移组件设计第36-39页
   ·负偏压设计第39页
   ·三维装配设计第39-44页
     ·Solid Works 软件简介第39-42页
     ·自转升降部件、平移部件及整体三维装配图第42-44页
   ·磁控溅射离子镀膜机工件架子系统样机第44页
   ·本章小结第44-45页
第4章 真空磁控溅射镀膜室壳体有限元分析第45-65页
   ·真空磁控溅射镀膜室壳体的结构设计第45页
   ·真空磁控溅射镀膜室壳体的具体结构第45-48页
   ·真空磁控溅射镀膜室壳体的有限元分析第48-61页
     ·有限元法简介第48-50页
     ·有限元法的基本思想第50页
     ·有限元法求解的基本步骤第50-53页
     ·真空室壳体的有限元分析过程第53-61页
   ·镀膜室改进设计第61-64页
     ·镀膜室改进结构第61-62页
     ·有限元分析第62-64页
   ·本章小结第64-65页
第5章 结论第65-66页
参考文献第66-68页
在学研究成果第68-69页
致谢第69-70页

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