| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·光放大器的产生和意义 | 第10-11页 |
| ·稀土掺杂光波导放大器的分类 | 第11-13页 |
| ·按掺杂稀土种类 | 第11-12页 |
| ·按稀土掺杂基质 | 第12页 |
| ·按波导结构 | 第12-13页 |
| ·国内外研究进展 | 第13-15页 |
| ·无机光波导放大器的研究进展 | 第13-15页 |
| ·有机光波导放大器的研究进展 | 第15页 |
| ·本论文完成的主要工作 | 第15-17页 |
| 第二章 光波导放大器的理论基础 | 第17-26页 |
| ·光波导模式理论基础 | 第17-22页 |
| ·三层平板波导的特征方程 | 第17-19页 |
| ·条型波导的特征方程 | 第19-22页 |
| ·铒离子的能级结构和跃迁特性 | 第22-23页 |
| ·光波导放大器的工作原理 | 第23-25页 |
| ·光波导放大器的结构 | 第23页 |
| ·掺铒光波导放大器的工作原理 | 第23-24页 |
| ·铒镱共掺光波导放大器的工作原理 | 第24-25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 第三章 聚合物光波导 ICP 刻蚀工艺 | 第26-40页 |
| ·聚合物光波导刻蚀表面的散射损耗 | 第26-30页 |
| ·材料选取与结构设计 | 第26-28页 |
| ·理论分析散射损耗 | 第28-30页 |
| ·ICP 刻蚀技术的优点和原理 | 第30-31页 |
| ·ICP 刻蚀 P(MMA-GMA) 材料参数优化 | 第31-37页 |
| ·ICP 刻蚀实验设计 | 第31-32页 |
| ·ICP 刻蚀参数优化 | 第32-35页 |
| ·ICP 刻蚀 P(MMA-GMA) 材料结果分析 | 第35-37页 |
| ·旋涂稀液法减小刻蚀表面粗糙度 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第四章 铒/镱共掺可溶性配合物光波导放大器的制备 | 第40-57页 |
| ·铒/镱共掺可溶性配合物薄膜的制备 | 第40-43页 |
| ·可溶性配合物粉末的合成 | 第40-41页 |
| ·可溶性配合物薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·可溶性配合物材料的优化 | 第42-43页 |
| ·硅基 ErYb (PBa)_6(Phen)_2配合物光波导放大器的制备 | 第43-48页 |
| ·ErYb (PBa)_6(Phen)_2配合物材料的表征 | 第43-45页 |
| ·硅基可溶性配合物光波导放大器的工艺流程 | 第45-46页 |
| ·器件测试与实验结果分析 | 第46-48页 |
| ·全聚合物 Er_(1.2)Yb_(0.8)(PBa)_6(Phen)_2配合物光波导放大器的制备 | 第48-53页 |
| ·Er_(1.2)Yb_(0.8)(PBa)_6(Phen)_2配合物材料的表征 | 第48-50页 |
| ·全聚合物可溶性配合物光波导放大器的工艺流程 | 第50-51页 |
| ·器件测试与实验结果分析 | 第51-53页 |
| ·配合物材料在不同激发功率下的荧光特性 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 作者简介及科研成果 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
