| 中文摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 引言 | 第13-36页 |
| ·引言 | 第13-15页 |
| ·ZnO 的结构与性质 | 第15-17页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第16-17页 |
| ·一维 ZnO 纳米材料的应用 | 第17页 |
| ·ZnO 纳米材料的制备技术 | 第17-28页 |
| ·水热法（Hydrothermal Method） | 第17-19页 |
| ·电化学沉积法（Electrochemical Deposition） | 第19-20页 |
| ·金属有机物化学气相沉积法（MOCVD） | 第20页 |
| ·模板法（Templates） | 第20-22页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第22-25页 |
| ·磁控溅射法（Magnetron Sputtering） | 第25-26页 |
| ·热蒸发法（Thermal Evaporation） | 第26-28页 |
| ·本论文工作的意义和主要内容 | 第28-31页 |
| 参考文献 | 第31-36页 |
| 第二章 样品的制备和表征 | 第36-54页 |
| ·ZnO 纳米线的制备 | 第36-39页 |
| ·基片的清洗 | 第36页 |
| ·实验设备及技术参数 | 第36-38页 |
| ·实验方法 | 第38-39页 |
| ·ZnO 薄膜过渡层的制备 | 第39-41页 |
| ·SIM 三层结构的构成 | 第41-43页 |
| ·样品的表征与测试分析 | 第43-53页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第43-45页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第45-47页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第47-49页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第49-50页 |
| ·光致发光谱（PL） | 第50-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第三章 ZnO 纳米线的结构、形貌及性能 | 第54-67页 |
| ·生长温度对 ZnO 纳米线的结构、形貌及性能的影响 | 第54-60页 |
| ·ZnO 纳米线的 XRD 分析 | 第55-56页 |
| ·ZnO 纳米线的 SEM 分析 | 第56-58页 |
| ·ZnO 纳米线的 TEM 分析 | 第58-59页 |
| ·ZnO 纳米线的 PL 分析 | 第59-60页 |
| ·衬底对 ZnO 纳米线的结构、形貌及性能的影响 | 第60-63页 |
| ·ZnO 纳米线的 XRD 分析 | 第61-62页 |
| ·ZnO 纳米线的 SEM 分析 | 第62-63页 |
| ·ZnO 纳米线的 PL 分析 | 第63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第四章 使用 ZnO 薄膜过渡层生长的 ZnO 纳米线的结构、形貌及其性能 | 第67-79页 |
| ·ZnO 薄膜过渡层的制备 | 第67-72页 |
| ·ZnO 薄膜过渡层的 XRD 分析 | 第68页 |
| ·ZnO 薄膜过渡层的 AFM 表面形貌分析 | 第68-71页 |
| ·ZnO 薄膜过渡层的 SEM 表面形貌分析 | 第71-72页 |
| ·采用 ZnO 薄膜过渡层的 ZnO 纳米线的制备及其表征 | 第72-73页 |
| ·ZnO 纳米线的 XRD 分析 | 第72-73页 |
| ·ZnO 纳米线的 SEM 分析 | 第73页 |
| ·ZnO 纳米线的生长过程讨论 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 第五章 SIM 三层结构的制备 | 第79-86页 |
| ·介质薄膜 MgF2和金属 Al 薄膜的制备 | 第79-80页 |
| ·介质薄膜 MgF2的 AFM 表征 | 第80-82页 |
| ·金属 Al 薄膜的 AFM 表征 | 第82-83页 |
| ·SIM 三层结构 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-86页 |
| 第六章 结论 | 第86-89页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
