| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 插图索引 | 第12-15页 |
| 附表索引 | 第15-16页 |
| 主要符号索引 | 第16-17页 |
| 第1章 绪论 | 第17-42页 |
| ·研究背景 | 第17-39页 |
| ·精细陶瓷精密磨削技术概述 | 第19-25页 |
| ·精细陶瓷磨削表面/亚表面损伤研究现状 | 第25-31页 |
| ·精细陶瓷的 ELID 磨削技术概述 | 第31-34页 |
| ·精细陶瓷化学机械抛光（CMP）技术概述 | 第34-39页 |
| ·论文研究的主要内容、目的和意义 | 第39-41页 |
| ·研究课题的来源 | 第39页 |
| ·论文的目的及主要内容 | 第39-41页 |
| ·研究意义 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第2章 高效精密磨削加工实验台搭建与实验方案设计 | 第42-55页 |
| ·典型零件及其加工工艺要求 | 第42-43页 |
| ·实验材料及性能 | 第43-45页 |
| ·高效精密磨削加工实验台的搭建 | 第45-48页 |
| ·数控坐标磨床 | 第45-47页 |
| ·精密磨削实验装置 | 第47-48页 |
| ·ELID 磨削与化学机械抛光实验装置 | 第48页 |
| ·表面质量测试与分析 | 第48-54页 |
| ·表面粗糙度检测 | 第49-50页 |
| ·表面形貌观察 | 第50-51页 |
| ·磨削表面/亚表面损伤检测 | 第51-52页 |
| ·磨削表面破碎损伤及其测量 | 第52-54页 |
| ·工艺实验方案 | 第54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第3章 氮化硅陶瓷回转曲面典型零件精密磨削技术研究 | 第55-75页 |
| ·回转曲面磨削表面残留高度建模 | 第55-58页 |
| ·回转曲面磨削表面残留高度的模型分析 | 第58-59页 |
| ·磨削工艺参数对磨削表面残留高度的影响 | 第58-59页 |
| ·基于等磨削表面残留高度的进给速度优化 | 第59页 |
| ·磨削工艺参数对磨削表面粗糙度的影响 | 第59-65页 |
| ·砂轮半径、砂轮进给速度、工件曲率半径的影响 | 第59-64页 |
| ·砂轮线速度的影响 | 第64页 |
| ·砂轮粒度的影响 | 第64-65页 |
| ·磨削深度的影响 | 第65页 |
| ·磨削表面形貌实验研究 | 第65-68页 |
| ·砂轮磨料粒度的影响 | 第66-67页 |
| ·磨削深度与砂轮进给速度的影响 | 第67-68页 |
| ·磨削亚表面损伤深度的研究 | 第68-74页 |
| ·亚表面损伤深度模型的建立 | 第68-69页 |
| ·圆形截面抛光法测量陶瓷磨削亚表面损伤 | 第69-70页 |
| ·精密磨削工艺参数对亚表面损伤深度的影响规律 | 第70-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第4章 氮化硅陶瓷回转曲面典型零件 ELID 磨削技术研究 | 第75-93页 |
| ·ELID 磨削氧化膜作用机理 | 第75-76页 |
| ·ELID 磨削实验装置研制 | 第76-81页 |
| ·ELID 磨削电源 | 第76-77页 |
| ·ELID 磨削砂轮 | 第77-78页 |
| ·修整电极的设计 | 第78-80页 |
| ·阳极电刷 | 第80-81页 |
| ·ELID 磨削用电解液 | 第81页 |
| ·电解参数对预修锐时间及氧化膜成膜的影响 | 第81-87页 |
| ·电解预修锐氧化膜成膜机理 | 第81-84页 |
| ·可控参数对预修锐时间的影响实验 | 第84-87页 |
| ·ELID 动态磨削阶段控制方程 | 第87-88页 |
| ·工艺参数对 ELID 磨削过程影响的实验研究 | 第88-92页 |
| ·ELID 磨削试验所用仪器设备与参数 | 第88-89页 |
| ·电解参数对 ELID 磨削表面粗糙度的影响 | 第89-90页 |
| ·磨削工艺参数对 ELID 磨削表面粗糙度的影响 | 第90-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 第5章 氮化硅陶瓷回转曲面典型零件化学机械抛光技术研究 | 第93-108页 |
| ·抛光工艺实验方案的设计 | 第93-98页 |
| ·抛光液配制 | 第93-95页 |
| ·抛光轮设计 | 第95-98页 |
| ·抛光运动方式与实验参数 | 第98页 |
| ·工艺参数对化学机械抛光表面粗糙度的影响 | 第98-101页 |
| ·抛光液浓度对表面粗糙度的影响 | 第99页 |
| ·抛光液流量对表面粗糙度的影响 | 第99-100页 |
| ·抛光轮转速对表面粗糙度的影响 | 第100页 |
| ·抛光时间对表面粗糙度的影响 | 第100-101页 |
| ·基于田口方法的化学机械抛光工艺参数优化 | 第101-107页 |
| ·田口实验方法的原理及实现 | 第101-102页 |
| ·参数水平选择与正交表设计 | 第102-103页 |
| ·参数优化结果与讨论 | 第103-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第6章 典型零件高效精密磨削加工工艺研究 | 第108-130页 |
| ·高效精密磨削加工工艺 | 第108-111页 |
| ·高效精密磨削加工工艺试验主要设备与参数 | 第111页 |
| ·高效精密磨削加工工艺试验 | 第111-116页 |
| ·普通磨削与 ELID 磨削对比试验研究 | 第111-113页 |
| ·精密磨削—ELID 磨削与精密磨削—CMP 对比试验研究 | 第113-114页 |
| ·高效精密磨削加工工艺方案的实现及其试验研究 | 第114-116页 |
| ·基于亚表面损伤深度预测控制的高效精密磨削加工工艺参数优选 | 第116-129页 |
| ·基于模糊遗传神经网络的精密磨削工艺参数优选 | 第116-126页 |
| ·ELID 磨削与化学机械抛光工艺参数优化 | 第126-128页 |
| ·基于亚表面损伤深度预测控制的高效精密磨削加工实例 | 第128-129页 |
| ·本章小结 | 第129-130页 |
| 结论与展望 | 第130-134页 |
| 参考文献 | 第134-146页 |
| 致谢 | 第146-148页 |
| 附录 A 攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第148-149页 |
| 附录 B 攻读博士学位期间所获得的软件著作权 | 第149-150页 |
| 附录 C 攻读博士学位期间所参加的科研项目 | 第150页 |
