| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 1 绪论 | 第11-35页 |
| ·Mg、Li、Sr 及其合金 | 第11-27页 |
| ·镁的性质特征、应用、分布及制备方法 | 第11-19页 |
| ·锂的性质特征、应用、分布及制备方法 | 第19-23页 |
| ·锶的性质特征、应用、分布及制备方法 | 第23-26页 |
| ·常见镁合金分类 | 第26-27页 |
| ·Mg-Li 合金的性质特征、应用、制备方法、研究历史及现状 | 第27-30页 |
| ·Mg-Li 合金的性质特征 | 第27-28页 |
| ·Mg-Li 合金的应用 | 第28页 |
| ·Mg-Li 合金的制备方法 | 第28-29页 |
| ·Mg-Li 合金的研究历史及现状 | 第29-30页 |
| ·Mg-Sr 合金的性质特征、应用、制备方法、研究历史及现状 | 第30-33页 |
| ·Mg-Sr 合金的性质特征 | 第30页 |
| ·Mg-Sr 合金的应用 | 第30-31页 |
| ·Mg-Sr 合金的制备方法 | 第31-32页 |
| ·Mg-Sr 合金的研究历史及现状 | 第32-33页 |
| ·论文研究目的、意义和主要内容 | 第33-35页 |
| 2 真空硅热还原热力学及动力学 | 第35-57页 |
| ·真空硅热还原制备 Mg-Li 合金热力学 | 第35-40页 |
| ·Si、Li、Mg 的氧化还原能力 | 第35-36页 |
| ·真空硅热还原制镁热力学 | 第36-37页 |
| ·真空硅热还原制锂热力学 | 第37-38页 |
| ·真空硅热还原制备镁锂条件分析 | 第38-40页 |
| ·真空硅热还原制备 Mg-Sr 合金热力学 | 第40-42页 |
| ·Si 和 Sr 的氧化还原能力 | 第40页 |
| ·真空硅热还原制锶热力学 | 第40-41页 |
| ·真空硅热还原制备镁锶条件分析 | 第41-42页 |
| ·还原反应动力学 | 第42-49页 |
| ·化学反应动力学研究现状 | 第43页 |
| ·反应动力学模型分类 | 第43-44页 |
| ·反应动力学模型建立方法 | 第44页 |
| ·模型建立注意问题 | 第44-45页 |
| ·固/固相反应 | 第45-47页 |
| ·反应动力学分析 | 第47-49页 |
| ·反应动力学影响因素 | 第49页 |
| ·产物的汽化/升华 | 第49-53页 |
| ·镁、锂、锶的三相图 | 第49-52页 |
| ·物质的汽化/升华类型 | 第52-53页 |
| ·物质的汽化/升华影响因素 | 第53页 |
| ·产物的冷凝 | 第53-56页 |
| ·真空同步冷凝镁锂 | 第53-55页 |
| ·真空同步冷凝镁锶 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 3 实验设备、材料及工艺 | 第57-83页 |
| ·实验设备 | 第57-77页 |
| ·真空感应炉常识 | 第57-60页 |
| ·真空感应炉设计 | 第60-72页 |
| ·真空感应炉产品 | 第72-77页 |
| ·相关实验设备 | 第77页 |
| ·实验材料 | 第77-80页 |
| ·煅烧白云石 | 第77-78页 |
| ·硅铁 | 第78页 |
| ·萤石 | 第78页 |
| ·碳酸锂 | 第78-79页 |
| ·氧化锶 | 第79-80页 |
| ·实验工艺步骤 | 第80页 |
| ·本章小结 | 第80-83页 |
| 4 真空硅热还原制备 Mg-Li 合金研究 | 第83-99页 |
| ·材料配比计算 | 第83-84页 |
| ·实验 | 第84-87页 |
| ·实验方法 | 第84-85页 |
| ·实验现象 | 第85-87页 |
| ·残渣分析 | 第87-88页 |
| ·AAS 分析 | 第87-88页 |
| ·XRD 分析 | 第88页 |
| ·产物分析 | 第88-97页 |
| ·产物情况 | 第88-90页 |
| ·AAS 分析 | 第90页 |
| ·XRD 分析 | 第90-91页 |
| ·镁锂产物的冷凝生长机理研究 | 第91-97页 |
| ·还原率收集率计算 | 第97-98页 |
| ·还原率计算 | 第97页 |
| ·收集率计算 | 第97-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 5 真空硅热还原制备 Mg-Sr 合金研究 | 第99-117页 |
| ·材料配比计算 | 第99-100页 |
| ·实验 | 第100页 |
| ·残渣分析 | 第100-105页 |
| ·AAS 分析 | 第102页 |
| ·XRD 分析 | 第102-103页 |
| ·SEM 和 EDS 分析 | 第103-105页 |
| ·产物分析 | 第105-115页 |
| ·产物情况 | 第105-107页 |
| ·AAS 分析 | 第107页 |
| ·XRD 分析 | 第107-108页 |
| ·冷凝盖上产物 SEM 和 EDS 分析 | 第108-110页 |
| ·冷凝罩上产物 SEM 和 EDS 分析 | 第110-115页 |
| ·还原率和收集率计算 | 第115-116页 |
| ·还原率计算 | 第115页 |
| ·收集率计算 | 第115-116页 |
| ·本章小结 | 第116-117页 |
| 6 结论 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119-121页 |
| 参考文献 | 第121-129页 |
| 附录 | 第129页 |
| A. 作者在攻读学位期间的论文 | 第129页 |
| B. 作者在攻读学位期间的专利 | 第129页 |