| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一部分 铁基超导薄膜的制备技术 | 第9-26页 |
| 第1章 引言 | 第10-14页 |
| ·超导的研究历史 | 第10-11页 |
| ·超导应用 | 第11页 |
| ·铁基超导体简介 | 第11-13页 |
| ·本部分论文工作 | 第13-14页 |
| 第2章 样品制备及表征技术 | 第14-20页 |
| ·薄膜制备过程 | 第14页 |
| ·靶材烧结 | 第14-15页 |
| ·薄膜样品制备 | 第15-16页 |
| ·薄膜样品的表征 | 第16-20页 |
| ·结构表征 | 第16-18页 |
| ·成分分析 | 第18页 |
| ·形貌分析 | 第18-19页 |
| ·电磁测量 | 第19-20页 |
| 第3章 FeTe超导薄膜的制备及表征 | 第20-25页 |
| ·铁基超导体薄膜的研究及意义 | 第20页 |
| ·样品的制备及表征 | 第20-24页 |
| ·FeTe靶材结构及电磁性能 | 第20-23页 |
| ·FeTe薄膜结构及电磁性能 | 第23-24页 |
| ·薄膜超导机理浅析 | 第24-25页 |
| 第4章 结果与讨论 | 第25-26页 |
| 第二部分 稀土锗基合金成相规律研究 | 第26-55页 |
| 第1章 绪论 | 第27-29页 |
| ·磁半导体的研究历史 | 第27-28页 |
| ·本论文工作 | 第28-29页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第29-39页 |
| ·样品制备 | 第29-30页 |
| ·X射线粉末衍射法原理 | 第30-35页 |
| ·X射线产生和特性 | 第30-31页 |
| ·X射线的衍射方向 | 第31-32页 |
| ·X射线的衍射线强度 | 第32-35页 |
| ·多晶粉末的衍射强度 | 第35-36页 |
| ·Rietveld精修原理 | 第36-39页 |
| 第3章 实验结果分析 | 第39-51页 |
| ·样品概述 | 第39页 |
| ·NdGeMn体系物相分析 | 第39-42页 |
| ·SmGeMn体系物相分析 | 第42-45页 |
| ·GdGeMn体系物相分析 | 第45-47页 |
| ·TbGeMn体系物相分析 | 第47-51页 |
| 第4章 结果与讨论 | 第51-55页 |
| ·RGe_(n-x)Mn_x体系合金成相规律分析 | 第51页 |
| ·RGe_(3-x)Mn_x(R=Gd,Tb)未知相处理 | 第51-55页 |
| ·GdGe_(3-x)Mn_x未知相处理 | 第51-53页 |
| ·TbGe_(3-x)Mn_x未知相处理 | 第53-55页 |
| 第三部分 结论与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |