直接沉淀法制备氢氧化镁晶须的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 0 引言 | 第11-12页 |
| 1 文献综述 | 第12-26页 |
| ·新型绿色功能材料--晶须 | 第12-15页 |
| ·晶须的形貌及生长 | 第12-13页 |
| ·晶须的特性 | 第13-15页 |
| ·阻燃剂氢氧化镁的研究概况 | 第15-19页 |
| ·纳米氢氧化镁 | 第16-18页 |
| ·片状氢氧化镁 | 第18页 |
| ·氢氧化镁晶须 | 第18-19页 |
| ·氢氧化镁晶须的制备方法 | 第19-21页 |
| ·直接沉淀法制备氢氧化镁晶须 | 第19-20页 |
| ·沉淀转化法制备氢氧化镁晶须 | 第20-21页 |
| ·氢氧化镁晶须的生长机理研究进展 | 第21-23页 |
| ·晶须的螺旋位错生长机理 | 第22页 |
| ·负离子配位多面体生长基元理论 | 第22-23页 |
| ·镁资源概况及其开发利用 | 第23-24页 |
| ·镁资源概况 | 第23页 |
| ·镁资源的开发利用 | 第23-24页 |
| ·选题目的与意义 | 第24-25页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第25-26页 |
| 2 直接沉淀法制备氢氧化镁晶须的实验研究 | 第26-42页 |
| ·实验方案 | 第26-30页 |
| ·实验原料及仪器设备 | 第26-27页 |
| ·实验方法及工艺流程 | 第27-28页 |
| ·产品表征 | 第28-30页 |
| ·制备氢氧化镁晶须的工艺研究 | 第30-36页 |
| ·沉淀剂的选择 | 第30-31页 |
| ·溶剂的选择 | 第31-32页 |
| ·MgCl_2与NaOH反应配比的选择 | 第32-33页 |
| ·洗涤剂的选择 | 第33-34页 |
| ·干燥工艺条件的选择 | 第34-36页 |
| ·制备氢氧化镁晶须助剂的选择 | 第36-41页 |
| ·助剂的作用及分类 | 第36-37页 |
| ·不同助剂对氢氧化镁晶须制备的影响 | 第37-39页 |
| ·添加不同助剂所得氢氧化镁晶须的SEM图分析 | 第39-40页 |
| ·助剂在氢氧化镁晶须制备中的作用 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 3 氢氧化镁晶须制备工艺条件研究 | 第42-51页 |
| ·以硬脂酸锌为助剂制备氢氧化镁晶须的工艺条件研究 | 第42-46页 |
| ·沉淀温度的影响 | 第42-43页 |
| ·晶化温度的影响 | 第43-44页 |
| ·晶化时间的影响 | 第44页 |
| ·以硬脂酸锌为助剂制备氢氧化镁晶须的SEM图 | 第44-45页 |
| ·以硬脂酸锌为助剂制备氢氧化镁晶须的XRD分析 | 第45-46页 |
| ·以氯化铁为外离子制备氢氧化镁晶须的工艺条件研究 | 第46-50页 |
| ·沉淀时间的影响 | 第47页 |
| ·反应温度的影响 | 第47-48页 |
| ·外离子加入量的影响 | 第48页 |
| ·以氯化铁为外离子制备氢氧化镁晶须的SEM图 | 第48-49页 |
| ·以氯化铁为外离子制备氢氧化镁晶须的XRD分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 4 氢氧化镁晶须的生长机理探讨 | 第51-56页 |
| ·氢氧化镁晶须的生长动力学研究 | 第51-53页 |
| ·晶体表面的成核作用 | 第51-53页 |
| ·晶粒的生长速率 | 第53页 |
| ·氢氧化镁晶须的生长基元探讨 | 第53-56页 |
| ·氢氧化镁晶体生长基元模型 | 第53-55页 |
| ·氢氧化镁晶须的生长基元 | 第55页 |
| ·氢氧化镁晶须的生长机理 | 第55-56页 |
| 5 结论与展望 | 第56-58页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·论文的创新性 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
