| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-24页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·铌酸锂的晶体结构与性质 | 第9-14页 |
| ·基本晶格结构 | 第9-10页 |
| ·原胞 | 第10-11页 |
| ·铌酸锂晶体的物理性质 | 第11-12页 |
| ·铌酸锂晶体的特点及应用 | 第12-13页 |
| ·同成分铌酸锂晶体 | 第13-14页 |
| ·铌酸锂晶体缺陷 | 第14-17页 |
| ·铌酸锂晶体的本征缺陷 | 第14-15页 |
| ·非本征缺陷 | 第15-17页 |
| ·铌酸锂晶体的掺杂改性 | 第17-20页 |
| ·铌酸锂晶体掺杂简介 | 第17-18页 |
| ·掺杂离子的选择 | 第18-19页 |
| ·氧化还原对掺杂离子的影响 | 第19-20页 |
| ·铌酸锂晶体的光折变效应 | 第20-22页 |
| ·光折变效应简介 | 第20页 |
| ·光折变效应物理机制 | 第20-21页 |
| ·光折变材料 | 第21-22页 |
| ·本课题的目的与意义 | 第22页 |
| ·本课题的研究内容 | 第22-23页 |
| ·本章小节 | 第23-24页 |
| 第2章 实验过程及实验方法 | 第24-35页 |
| ·掺杂元素的选择 | 第24-25页 |
| ·实验材料 | 第25-26页 |
| ·晶体生长 | 第26-29页 |
| ·晶体生长设备 | 第26-27页 |
| ·晶体生长过程 | 第27-29页 |
| ·晶体生长工艺 | 第29页 |
| ·晶体加工处理 | 第29-33页 |
| ·高温退火与单畴化 | 第29-32页 |
| ·定向切割 | 第32页 |
| ·氧化还原 | 第32页 |
| ·研磨抛光 | 第32-33页 |
| ·晶体测试 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 Cu:LiNbO_3晶体结构与缺陷 | 第35-57页 |
| ·Cu:LiNbO_3 晶体的红外光谱分析 | 第35-41页 |
| ·Cu:LiNbO_3 晶体紫外-可见光谱分析 | 第41-49页 |
| ·Cu:LiNbO_3 晶体Li 位X 射线散射因子模拟 | 第49-53页 |
| ·Cu:LiNbO_3 晶体宏观缺陷密度分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 Cu:LiNbO_3晶体的光折变性能 | 第57-69页 |
| ·Cu:LiNbO_3 晶体光折变性能 | 第57-64页 |
| ·二波耦合实验 | 第57-59页 |
| ·光折变性能分析 | 第59-64页 |
| ·Cu:LiNbO_3 晶体抗光损伤性能 | 第64-68页 |
| ·光斑畸变法 | 第64-66页 |
| ·抗光损伤实验分析 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 附录1 | 第76-83页 |
| 致谢 | 第83页 |