通过全光谱拟合法确定薄膜光学常数和厚度
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 目录 | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-9页 |
| ·课题背景 | 第6页 |
| ·研究现状 | 第6-8页 |
| ·论文框架 | 第8-9页 |
| 第二章 全光谱拟合法 | 第9-17页 |
| ·原理 | 第9-12页 |
| ·透过率/反射率计算 | 第9-11页 |
| ·光谱拟合 | 第11-12页 |
| ·光学薄膜的色散模型 | 第12-17页 |
| ·Cauchy模型 | 第12-13页 |
| ·F-B模型 | 第13-14页 |
| ·Sellmeier模型 | 第14页 |
| ·Lorentz Oscillstor模型 | 第14-16页 |
| ·Tauc-Lorentz模型 | 第16页 |
| ·Drude模型 | 第16-17页 |
| 第三章 优化算法 | 第17-34页 |
| ·模拟退火算法 | 第17-22页 |
| ·SA算法的基本理论 | 第17-19页 |
| ·模拟退火算法的缺陷 | 第19页 |
| ·自适应模拟退火法 | 第19-22页 |
| ·遗传算法 | 第22-29页 |
| ·GA算法的基本理论 | 第22-26页 |
| ·GA算法的实现流程 | 第26-28页 |
| ·自适应遗传算法 | 第28-29页 |
| ·混合优化 | 第29-34页 |
| ·自适应模拟退火法结合遗传算法 | 第30-31页 |
| ·自适应模拟退火法结合共轭梯度法 | 第31-34页 |
| 第四章 实验系统和软件开发评估 | 第34-62页 |
| ·硬件基本框架 | 第34-39页 |
| ·软件基本框架 | 第39-42页 |
| ·光谱拟合程序 | 第42-47页 |
| ·优化算法程序 | 第47-57页 |
| ·ASA程序设计 | 第47-51页 |
| ·GA和AGA程序设计 | 第51-54页 |
| ·混合优化程序设计 | 第54-57页 |
| ·软件程序评估 | 第57-62页 |
| ·理想单层膜 | 第57-58页 |
| ·理想多层膜 | 第58-62页 |
| 第五章 实验测试和数据分析 | 第62-74页 |
| ·HfO_2薄膜 | 第62-64页 |
| ·Ta_2O_5薄膜 | 第64-67页 |
| ·MgF_2薄膜 | 第67-69页 |
| ·TiO_2薄膜 | 第69-72页 |
| ·实验总结分析 | 第72-74页 |
| 第六章 总结与展望 | 第74-77页 |
| ·项目总结 | 第74-75页 |
| ·项目展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
