钛合金高频感应硬质氧化膜的制备及性能研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·钛合金及其应用简介 | 第9-17页 |
| ·钛及其合金 | 第9-10页 |
| ·钛合金的分类 | 第10-12页 |
| ·钛及钛合金的性能 | 第12-14页 |
| ·钛合金的应用现状及发展前景 | 第14-17页 |
| ·钛合金表面改性技术简介 | 第17-20页 |
| ·钛合金的普遍缺点 | 第17-18页 |
| ·钛合金表面改性技术的发展概况 | 第18-19页 |
| ·钛合金高频感应氧化技术原理 | 第19-20页 |
| ·本课题的研究意义、目的及内容 | 第20-22页 |
| ·研究目的及意义 | 第20-21页 |
| ·研究内容 | 第21-22页 |
| 2 试验研究 | 第22-29页 |
| ·试验条件 | 第22-24页 |
| ·试样材料 | 第22-23页 |
| ·试验设备 | 第23页 |
| ·试验试剂 | 第23-24页 |
| ·试验方案设计 | 第24-26页 |
| ·试验路线 | 第24页 |
| ·可行性探索试验 | 第24-25页 |
| ·系统研究试验 | 第25页 |
| ·比较试验 | 第25-26页 |
| ·工艺过程 | 第26页 |
| ·表面预处理 | 第26页 |
| ·高频感应氧化处理 | 第26页 |
| ·膜层的检测 | 第26-29页 |
| ·膜层的外观检验 | 第26-27页 |
| ·膜层厚度检测 | 第27页 |
| ·膜层显微硬度的检测 | 第27-28页 |
| ·膜层微观结构检测 | 第28页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第28-29页 |
| 3 试验结果分析与讨论 | 第29-48页 |
| ·可行性探索试验 | 第29-31页 |
| ·系统研究试验 | 第31-40页 |
| ·高频感应氧化膜的相组成 | 第40-41页 |
| ·氧化膜常见缺陷分析与讨论 | 第41-42页 |
| ·膜层色泽不均匀 | 第41页 |
| ·氧化层剥落 | 第41-42页 |
| ·氧化钛氧化膜的形成条件分析 | 第42-46页 |
| ·氧化钛形成的热力学条件分析 | 第42页 |
| ·氧化膜形成的生长动力学分析 | 第42-46页 |
| ·陶瓷膜的生长动力学模型 | 第46-48页 |
| 4 对比试验分析 | 第48-53页 |
| ·钛合金微等离子体氧化工艺研究 | 第48-50页 |
| ·钛合金微等离子体氧化的原理及特点 | 第48页 |
| ·钛合金微等离子体氧化陶瓷膜的性能 | 第48-49页 |
| ·钛合金微等离子体氧化试验研究 | 第49-50页 |
| ·钛合金热氧化工艺研究 | 第50-51页 |
| ·钛合金热氧化工艺的原理及特点 | 第50-51页 |
| ·钛合金热氧化试验研究 | 第51页 |
| ·各表面处理技术之间的比较分析 | 第51-53页 |
| 5 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 附：作者在攻读硕士期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 独创性声明 | 第59页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第59页 |
