| Abstract | 第1-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-15页 |
| ·铁电体的基本概念与结构 | 第8-9页 |
| ·铁电材料与集成铁电学的研究进展 | 第9-11页 |
| ·铁电存储器与导电阻挡层的研究概况 | 第11-13页 |
| ·本论文的主要内容及其意义 | 第13-15页 |
| 第2章 薄膜制备方法及检测方法 | 第15-21页 |
| ·金属有机化合物气相沉积法(MOCVD) | 第15页 |
| ·磁控溅射法(magnetron sputtering) | 第15-17页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol-Gel) | 第17页 |
| ·X—射线衍射(XRD) | 第17-18页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第18-20页 |
| ·小结 | 第20-21页 |
| 第3章 Ni-Al薄膜导电阻挡层的制备研究 | 第21-29页 |
| ·金属间化合物Ni-Al材料 | 第21页 |
| ·Ni-Al薄膜的制备 | 第21-22页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO底电极的制备 | 第22页 |
| ·PZT铁电薄膜的制备 | 第22页 |
| ·LSCO/PZT/LSCO铁电电容器的制备 | 第22页 |
| ·铁电电容器异质结构的表征 | 第22-25页 |
| ·Pt/LSCO/PZT/LSCO/非晶Ni-Al/Si电容器的铁电性能 | 第25-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第4章 Ti_3Al薄膜导电阻挡层的制备研究 | 第29-38页 |
| ·金属间化合物Ti-Al材料 | 第29页 |
| ·Ti_3Al薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·Pt/LSCO/PZT/LSCO/Ti_3Al/Si电容器的制备 | 第30页 |
| ·铁电电容器异质结构的表征 | 第30-32页 |
| ·铁电电容器铁电性能的研究 | 第32-35页 |
| ·低温PZT铁电薄膜的制备研究 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第5章 以室温LaNiO_3为底电极的电容器的制备研究 | 第38-44页 |
| ·Pt/LNO/PZT/LNO/STO电容器的制备 | 第38-39页 |
| ·电容器异质结构的表征 | 第39-40页 |
| ·LNO/PZT/LNO电容器铁电性能的研究 | 第40-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 结束语 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-51页 |
| 附录 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
