| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-32页 |
| ·涂料简介 | 第9-12页 |
| ·涂料的分类 | 第9-10页 |
| ·涂料的干燥过程 | 第10-11页 |
| ·干燥方式 | 第11-12页 |
| ·干燥缺陷 | 第12页 |
| ·高分子涂膜的干燥动力学 | 第12-13页 |
| ·溶剂的去除 | 第13页 |
| ·扩散现象与扩散系数 | 第13页 |
| ·高分子膜干燥的研究现状 | 第13-20页 |
| ·对高分子膜干燥特性研究 | 第14页 |
| ·高分子膜干燥过程的模型化研究 | 第14-15页 |
| ·对扩散系数进行模型化研究 | 第15页 |
| ·干燥设备与干燥方式 | 第15-18页 |
| ·干燥参数对干燥过程的影响 | 第18-19页 |
| ·对干燥缺陷进行研究 | 第19-20页 |
| ·高分子共混膜干燥相分离 | 第20-27页 |
| ·相分离的机理 | 第20-22页 |
| ·高分子共混膜相分离研究现状 | 第22-27页 |
| ·原子力显微镜与石英晶体微天平介绍 | 第27-30页 |
| ·原子力显微镜介绍 | 第28-30页 |
| ·石英晶体微天平介绍 | 第30页 |
| ·课题的提出及研究意义 | 第30-32页 |
| 第2章 实验装置与实验方法 | 第32-35页 |
| ·自制强制氮气对流干燥装置 | 第32-33页 |
| ·干燥动力学实验 | 第33-34页 |
| ·仪器 | 第33页 |
| ·试剂 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-34页 |
| ·原子力显微镜制膜与扫描实验 | 第34-35页 |
| ·仪器 | 第34页 |
| ·试剂 | 第34页 |
| ·共混膜的制备 | 第34页 |
| ·原子力显微镜扫描 | 第34-35页 |
| 第3章 高分子膜干燥动力学 | 第35-48页 |
| ·干燥动力学曲线的测定 | 第35-36页 |
| ·涂膜干燥模型的建立 | 第36-37页 |
| ·涂膜干燥的理论基础 | 第36-37页 |
| ·在此模型中需要注意的几点 | 第37页 |
| ·关联结果与讨论 | 第37-47页 |
| ·溶剂的扩散行为 | 第41-42页 |
| ·气流温度、气流速率与组成比例对干燥动力学过程的影响 | 第42-43页 |
| ·无限稀释扩散系数D_0与溶剂聚合物相互作用参数g | 第43-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| 第4章 高分子共混膜的相分离结构研究 | 第48-64页 |
| ·对PS/PC高分子共混膜干燥AFM图的分析 | 第48-57页 |
| ·组成比例对PS/PC高分子共混膜相分离结构的影响 | 第49-51页 |
| ·温度对PS/PC高分子共混膜相分离结构的影响 | 第51-54页 |
| ·气流对PS/PC高分子共混膜相分离结构的影响 | 第54-56页 |
| ·温度、气流、组成对PS/PC高分子共混膜相分离结构的共同作用 | 第56-57页 |
| ·对PS/PMMA高分子共混膜干燥AFM图的分析 | 第57-61页 |
| ·组成比例对PS/PMMA高分子共混膜相分离结构的影响 | 第57-59页 |
| ·温度对PS/PMMA高分子共混膜相分离结构的影响 | 第59页 |
| ·气流对PS/PMMA高分子共混膜相分离结构的影响 | 第59-61页 |
| ·溶剂对高分子共混膜相分离结构的影响 | 第61页 |
| ·相分离结构对溶剂传递的影响 | 第61-62页 |
| ·PS/PC共混体系与PS/PMMA共混体系相比较 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第5章 全文总结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
