| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-33页 |
| ·课题背景 | 第10页 |
| ·黄铜矿相薄膜太阳电池材料研究概述 | 第10-17页 |
| ·硅纳米线薄膜材料研究概述 | 第17-26页 |
| ·硅纳米线的制备方法 | 第18-23页 |
| ·硅纳米线的应用概述 | 第23-26页 |
| ·表面增强拉曼散射研究概述 | 第26-30页 |
| ·本文的研究内容 | 第30-33页 |
| 第2章 黄铜矿相薄膜太阳电池材料的制备和改性研究 | 第33-60页 |
| ·引言 | 第33-35页 |
| ·实验装置及实验方法 | 第35-38页 |
| ·基片的处理 | 第35-36页 |
| ·电化学沉积装置 | 第36-37页 |
| ·真空退火和 Zn 掺杂装置 | 第37-38页 |
| ·薄膜的分析与表征 | 第38-42页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第38-39页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第39页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第39页 |
| ·X 射线荧光光谱分析(XRF) | 第39页 |
| ·俄歇电子能谱(AES) | 第39-40页 |
| ·拉曼光谱分析（Raman） | 第40页 |
| ·霍尔效应(HE)测试 | 第40-41页 |
| ·伏安曲线测试（I-V） | 第41-42页 |
| ·CuInSe_2薄膜的制备及改性 | 第42-53页 |
| ·溶液组成对电化学沉积 CuInSe2薄膜的影响 | 第42-43页 |
| ·搅拌对电化学沉积 CISe 薄膜的影响 | 第43页 |
| ·CISe 薄膜的真空退火处理 | 第43-45页 |
| ·CISe 薄膜的 Zn 掺杂 | 第45-53页 |
| ·CuInS_2薄膜的制备和表征 | 第53-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第3章 硅纳米线薄膜的制备及其性能 | 第60-98页 |
| ·引言 | 第60-64页 |
| ·多孔硅纳米线薄膜 | 第60-62页 |
| ·硅纳米结构减反射薄膜 | 第62-64页 |
| ·薄膜的制备和表征 | 第64-66页 |
| ·硅纳米线阵列薄膜的制备方法 | 第64页 |
| ·多孔硅纳米线阵列薄膜的制备方法 | 第64-65页 |
| ·硅纳米结构减反射薄膜的制备方法 | 第65页 |
| ·薄膜的分析与表征 | 第65-66页 |
| ·硅纳米线薄膜的制备 | 第66-73页 |
| ·HF-AgNO_3沉积溶液体系制备硅纳米线阵列 | 第66-69页 |
| ·NH4F-AgNO_3沉积溶液体系制备硅纳米线阵列 | 第69-73页 |
| ·多孔硅纳米线薄膜的制备和表征 | 第73-92页 |
| ·基于单晶硅的多孔硅纳米线薄膜 | 第73-78页 |
| ·基于多晶硅的多孔硅纳米线薄膜 | 第78-85页 |
| ·多孔硅纳米线的钝化 | 第85-90页 |
| ·多孔硅纳米线的形成机制 | 第90-91页 |
| ·多孔硅纳米线薄膜的表面润湿性能 | 第91-92页 |
| ·硅纳米结构减反射薄膜的制备和表征 | 第92-97页 |
| ·硅纳米结构减反射薄膜的制备 | 第92-95页 |
| ·硅纳米结构薄膜的减反射性能 | 第95-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 第4章 表面增强拉曼散射薄膜基底的制备和表征 | 第98-112页 |
| ·引言 | 第98-99页 |
| ·薄膜的制备和测试 | 第99-100页 |
| ·包覆银纳米颗粒的硅纳米线 SERS 基底的制备 | 第99页 |
| ·Ag 树枝晶 SRES 基底的制备 | 第99页 |
| ·分析方法 | 第99-100页 |
| ·包覆 Ag 纳米颗粒的硅纳米线薄膜 | 第100-105页 |
| ·Ag 树枝晶结构薄膜 | 第105-111页 |
| ·本章小结 | 第111-112页 |
| 第5章 结论 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-129页 |
| 致谢 | 第129-131页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第131-132页 |