| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·研究意义 | 第9页 |
| ·射频辉光放电的基本原理 | 第9-14页 |
| ·电容耦合射频放电系统 | 第9-10页 |
| ·射频辉光放电的自生负偏压 | 第10-12页 |
| ·射频辉光放电的激发源 | 第12-13页 |
| ·射频辉光放电激发源的阻抗匹配网络 | 第13-14页 |
| ·数值模拟研究方法及进展 | 第14-15页 |
| ·本文主要工作思路和创新 | 第15-17页 |
| 2 氮气射频辉光放电 PIC/MC 混合模型 | 第17-29页 |
| ·粒子模拟简介 | 第17-18页 |
| ·物理模型 | 第18-19页 |
| ·理论方法与模拟流程 | 第19-27页 |
| ·基本假设 | 第19-20页 |
| ·粒子初始状态安置 | 第20-21页 |
| ·采用蛙跳格式推动粒子运动 | 第21-23页 |
| ·电荷密度在最近网格点上的近似展开 | 第23-24页 |
| ·用有限差分法求解泊松方程 | 第24-25页 |
| ·Monte Carlo 模型处理粒子碰撞过程 | 第25-27页 |
| ·模拟需要注意的问题 | 第27-29页 |
| ·程序与算法 | 第27页 |
| ·采用多时标法推动粒子 | 第27页 |
| ·模拟粒子数的控制 | 第27-29页 |
| 3 非对称射频放电 PIC/MC 模拟 | 第29-37页 |
| ·鞘层厚度的演化规律 | 第30-31页 |
| ·自洽电势与电场的空间分布 | 第31-33页 |
| ·带电粒子密度的空间分布 | 第33-35页 |
| ·电子平均能量的空间分布 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 4 对称射频放电等离子过程二维 PIC/MC 研究 | 第37-48页 |
| ·离子和电子密度 | 第37-39页 |
| ·自洽电势与电场的时间-空间分布 | 第39-41页 |
| ·电子碰撞电离率 | 第41-45页 |
| ·γ 电离 | 第41-42页 |
| ·α 电离 | 第42-45页 |
| ·e- N_2离解率 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 5 总结与展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果清单 | 第56页 |