| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 1 引言 | 第8-26页 |
| ·磁记录薄膜介质的发展及研究现状 | 第8-12页 |
| ·薄膜概述 | 第8-9页 |
| ·磁记录薄膜概述 | 第9-12页 |
| ·表征磁记录介质性能的参数 | 第12-15页 |
| ·矫顽力 | 第12-13页 |
| ·饱和磁化强度(Saturation Magnetization, Ms)和剩余磁化强度 (Remanence Magnetization,Mr) | 第13页 |
| ·磁滞回线的方形度 | 第13-15页 |
| ·颗粒临界尺寸 | 第15页 |
| ·磁记录薄膜中的退磁场 | 第15-17页 |
| ·磁记录薄膜中磁性颗粒之间的相互作用 | 第17-21页 |
| ·δ M ( H)曲线 | 第18-20页 |
| ·Henkel 曲线 | 第20-21页 |
| ·影响矫顽力的主要因素 | 第21-23页 |
| ·磁晶各向异性 | 第21-22页 |
| ·应力各向异性 | 第22-23页 |
| ·形状各向异性 | 第23页 |
| ·本论文的研究 | 第23-24页 |
| ·本论文的研究内容 | 第24-26页 |
| 2 样品的制备及测试方法 | 第26-40页 |
| ·薄膜样品的制备工艺 | 第26-28页 |
| ·真空蒸镀法(Vacuum Evaporating) | 第26页 |
| ·溅射法(Sputtering) | 第26-27页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第27-28页 |
| ·共溅射(Co-sputteri ng)和反应溅射法(Reactive Magnetron Sputtering) | 第28页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第28-30页 |
| ·薄膜样品的测试及原理 | 第30-35页 |
| ·确定结构的X光测量及原理 | 第30-31页 |
| ·扫描探针显微镜的观测 | 第31-34页 |
| ·振动样品磁强计(Vibrating Sample Magnetometer, VSM) | 第34-35页 |
| ·样品的制备及后处理 | 第35-40页 |
| ·基片清洗 | 第35-36页 |
| ·溅射镀膜 | 第36-38页 |
| ·薄膜的后处理 | 第38-40页 |
| 3 实验内容 | 第40-61页 |
| ·Ag 层厚度对 Ag/Fe/Ag 薄膜的微结构和磁特性的影响 | 第40-46页 |
| ·Fe 层厚度对 Ag/Fe/Ag 薄膜的微结构和磁特性的影响 | 第46-51页 |
| ·退火温度对 Ag/Fe/Ag 薄膜的微结构和磁特性的影响 | 第51-57页 |
| ·退火温度对 Fe/Ag 薄膜的微结构和磁特性的影响 | 第57-61页 |
| 4 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读学位期间科研成果 | 第71页 |
