摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
引言 | 第10-11页 |
1 文献综述 | 第11-26页 |
·纳米材料的概述 | 第11-14页 |
·纳米粒子和纳米材料的定义 | 第11页 |
·纳米粒子特性 | 第11-14页 |
·半导体光催化剂TiO_2的国内外研究现状 | 第14页 |
·半导体TiO_2光催化氧化的机理 | 第14-16页 |
·半导体TiO_2的结构 | 第14页 |
·半导体TiO_2光催化氧化的机理 | 第14-16页 |
·半导体TiO_2的吸收特性 | 第16-17页 |
·吸收边蓝移 | 第16页 |
·吸收边红移 | 第16-17页 |
·纳米TiO_2的改性方法 | 第17-18页 |
·金属离子掺杂 | 第17页 |
·非金属离子掺杂 | 第17页 |
·贵金属沉积 | 第17-18页 |
·染料光敏化 | 第18页 |
·复合半导体 | 第18页 |
·纳米TiO_2的制备方法、常用表征方法及在降解有机物方面的应用 | 第18-23页 |
·纳米TiO_2粉体的制备方法 | 第18-20页 |
·纳米TiO_2薄膜的制备方法 | 第20-22页 |
·纳米TiO_2薄膜载体的作用 | 第20页 |
·纳米TiO_2薄膜载体的类型 | 第20-21页 |
·纳米TiO_2薄膜制备方法 | 第21-22页 |
·纳米TiO_2的常用表征方法 | 第22-23页 |
·纳米TiO_2在降解有机物方面的应用 | 第23页 |
·本文的研究背景及选题依据 | 第23-24页 |
·本文创新点 | 第24页 |
·本文的研究思路、研究内容和目标 | 第24-26页 |
2 掺杂WO_3的纳米TiO_2/SiO_2的制备及其影响因素 | 第26-47页 |
·引言 | 第26页 |
·掺杂WO_3的纳米TiO_2/SiO_2的溶胶水热法制备 | 第26-27页 |
·实验部分 | 第26-27页 |
·主要仪器及型号 | 第27页 |
·掺杂WO_3的纳米TiO_2/SiO_2的制备 | 第27-29页 |
·溶胶的制备 | 第27-28页 |
·水热合成 | 第28页 |
·合成路线图 | 第28-29页 |
·掺杂WO_3的纳米TiO_2/SiO_2的表征 | 第29页 |
·结果与讨论 | 第29-38页 |
·XRD分析 | 第29-33页 |
·IR光谱分析 | 第33-35页 |
·样品骨架结构及表面基团的测定 | 第33-34页 |
·样品表面酸性的测定 | 第34-35页 |
·Zeta电位分析 | 第35-36页 |
·紫外可见光漫反射吸收光谱分析 | 第36-37页 |
·TEM分析 | 第37页 |
·催化剂的比表面积 | 第37-38页 |
·WO_3/SiO_2/TiO_2的溶胶溶剂热合成 | 第38-39页 |
·实验部分 | 第38-39页 |
·实验药品 | 第38-39页 |
·实验仪器 | 第39页 |
·实验步骤 | 第39-41页 |
·WO_3/SiO_2/TiO_2的制备 | 第39页 |
·合成路线 | 第39-40页 |
·WO_3/SiO_2/TiO_2的表征 | 第40-41页 |
·结果与讨论 | 第41-45页 |
·XRD分析 | 第41页 |
·IR光谱分析 | 第41-43页 |
·紫外可见光漫反射吸收光谱 | 第43-44页 |
·TEM分析 | 第44-45页 |
·比表面积的测定 | 第45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
3 掺杂WO_3的纳米TiO_2/SiO_2的光催化性能的研究 | 第47-63页 |
·引言 | 第47-48页 |
·实验部分 | 第48-50页 |
·实验药剂 | 第48-49页 |
·实验设备及仪器 | 第49页 |
·实验步骤 | 第49页 |
·实验装置图 | 第49-50页 |
·结果与讨论 | 第50-62页 |
·合成条件对光催化活性的影响 | 第50-57页 |
·光催化实验条件对催化活性的影响 | 第57-61页 |
·催化剂稳定性的研究 | 第61页 |
·空白实验 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
4 有机物光催化降解机理的浅释 | 第63-72页 |
·引言 | 第63-64页 |
·降解有机物的机理 | 第64-68页 |
·甲基橙的降解历程 | 第68-69页 |
·甲基橙降解的动力学行为 | 第69-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-78页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-80页 |