| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 引言 | 第13-24页 |
| ·概述 | 第13-21页 |
| ·ZnO:Al透明导电膜 | 第13-16页 |
| ·氧化物透明导电膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·氧化物透明导电膜的应用 | 第18-20页 |
| ·国际研究动向 | 第20-21页 |
| ·研究的主要内容和预期目标 | 第21-22页 |
| ·本研究课题的提出和意义 | 第21页 |
| ·研究的主要内容 | 第21-22页 |
| ·预期目标 | 第22页 |
| 参考文献 | 第22-24页 |
| 第二章 薄膜的形核及生长理论 | 第24-39页 |
| ·薄膜材料概述 | 第24-25页 |
| ·固体薄膜材料的特殊性质 | 第25-27页 |
| ·薄膜的形成 | 第27-37页 |
| ·凝结过程 | 第27-30页 |
| ·核形成与生长理论 | 第30-36页 |
| ·岛形成与其结合生长 | 第36-37页 |
| ·薄膜材料的特点 | 第37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 实验设备以及测试仪器 | 第39-53页 |
| ·溅射过程以及溅射原理 | 第39-44页 |
| ·JPGF-400B-G型射频磁控溅射仪 | 第44-47页 |
| ·仪器介绍 | 第44-46页 |
| ·溅射过程 | 第46-47页 |
| ·实验所用靶材及衬底 | 第47页 |
| ·测试仪器 | 第47-51页 |
| ·样品结构特性分析 | 第47-48页 |
| ·薄膜表面形貌观测(AFM) | 第48-49页 |
| ·薄膜方块电阻和膜厚的测量 | 第49-51页 |
| ·光学特性的测量 | 第51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 实验结果与讨论 | 第53-81页 |
| ·射频溅射功率和衬底温度对ZNO:AL膜的影响 | 第54-61页 |
| ·溅射功率和衬底温度对ZnO:Al膜结构的影响 | 第54-58页 |
| ·溅射功率和衬底温度对ZnO:Al膜电学性能的影响 | 第58-60页 |
| ·溅射功率和衬底温度对ZnO:Al膜光学性能的影响 | 第60-61页 |
| ·溅射氧氩气的分压比及总压强对纯氧化锌薄膜和ZNO:AL膜的影响 | 第61-65页 |
| ·溅射氧分压及总压强对纯氧化锌薄膜和ZnO:Al膜结构的影响 | 第61-62页 |
| ·氧氩气的分压以及溅射总压强对ZnO:Al膜光电性能的影响 | 第62-65页 |
| ·衬底与靶的间距对纯氧化锌薄膜和ZNO:AL膜的影响 | 第65-67页 |
| ·衬底与靶的间距对纯氧化锌薄膜和ZnO:Al膜结构的影响 | 第65-66页 |
| ·衬底与靶的间距对ZnO:Al膜光电性能的影响 | 第66-67页 |
| ·溅射时间和退火处理对纯氧化锌薄膜和ZNO:AL膜的影响 | 第67-72页 |
| ·溅射时间和退火处理对纯氧化锌薄膜和ZnO:Al膜结构的影响 | 第67-69页 |
| ·溅射时间和退火处理对纯氧化锌和ZnO:Al膜光电性能的影响 | 第69-72页 |
| ·不同铝靶功率下薄膜的拉曼光谱和荧光光谱 | 第72-74页 |
| ·薄膜在空气中放置时的稳定性问题 | 第74-75页 |
| ·氧化锌薄膜的其它掺杂研究 | 第75-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第五章 结论 | 第81-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
