| 第一章 超硬纳米多层膜和复合膜的研究综述 | 第1-32页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·纳米多层膜 | 第9-13页 |
| ·金属／氮化物(碳化物,硼化物等)多层膜 | 第9-10页 |
| ·氮化物／氮化物多层膜 | 第10-13页 |
| ·纳米复合膜 | 第13-17页 |
| ·超硬薄膜的致硬机理和设计 | 第17-25页 |
| ·超硬薄膜的致硬机理 | 第17-23页 |
| ·超硬纳米复合膜的设计思想 | 第23-25页 |
| ·本文研究的目的、意义及内容 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 磁控溅射制备Ti／TiN和CrN／SiNx纳米多层膜及表征 | 第32-55页 |
| ·磁控溅射沉积Ti／TiN和CrN／SiNx纳米多层 | 第32-34页 |
| ·Ti／TiN和CrN／SiNx多层膜样品的表征 | 第34-38页 |
| ·X射线衍射技术(XRD) | 第34-35页 |
| ·掠入射X射线反射(GIXRR) | 第35-36页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第36-37页 |
| ·纳米压痕仪 | 第37-38页 |
| ·纳米多层膜调制周期和沉积率的测定及界面宽度的估计公式 | 第38-45页 |
| ·纳米多层膜调制周期计算方法及界面宽度的估计公式 | 第38-40页 |
| ·CrN、SiNx和TiN沉积率的确定 | 第40-45页 |
| ·非理想多层膜界面宽度及粗糙度对XRR谱的影响 | 第45-53页 |
| ·界面粗糙度 | 第46-48页 |
| ·界面宽度(过渡区) | 第48-51页 |
| ·层厚漂移 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第三章 沉积条件对Ti／TiN多层膜微观结构、界面结构和硬度的影响及其热稳定性 | 第55-92页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·溅射压强对Ti／TiN纳米多层膜的影响 | 第56-63页 |
| ·衬底偏压对Ti／TiN多层膜的影响 | 第63-69页 |
| ·衬底温度对Ti／TiN多层膜的影响 | 第69-76页 |
| ·Ti／TiN多层膜的热稳定性 | 第76-85页 |
| ·Ti／TiN多层膜热稳定性的改善 | 第85-87页 |
| ·本章小结 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-92页 |
| 第四章 沉积条件对CrN／SiNx多层膜微观结构、界面结构和硬度的影响及其热稳定性 | 第92-125页 |
| ·引言 | 第92-93页 |
| ·溅射压强对CrN／SiNx纳米多层膜的影响 | 第93-100页 |
| ·衬底偏压对CrN／SiNx多层膜的影响 | 第100-106页 |
| ·衬底温度对CrN／SiNx多层膜的影响 | 第106-111页 |
| ·CrN／SiNx多层膜的界面融混情况 | 第111-115页 |
| ·CrN／SiNx多层膜的热稳定性研究 | 第115-121页 |
| ·本章小结 | 第121-122页 |
| 参考文献 | 第122-125页 |
| 第五章 本文结论 | 第125-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
| 发表文章 | 第129-130页 |
| 摘要 | 第130-136页 |
| Abstract | 第136-143页 |
