基于电磁搅拌的无铅互连新方法的初步研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
1 概述 | 第9-22页 |
·本课题的研究意义 | 第9-10页 |
·电子封装与组装无铅互连国内外研究现状 | 第10-17页 |
·磁控焊接和电磁铸造的国内外发展现状 | 第17-20页 |
·本课题的研究目的和研究内容 | 第20-22页 |
2 电磁搅拌的原理及相关问题的分析与讨论 | 第22-28页 |
·电磁搅拌的原理 | 第22-24页 |
·电磁搅拌所用的磁场能否对芯片造成损伤 | 第24-25页 |
·电磁搅拌能否致使相邻细节距焊点的桥连 | 第25-26页 |
·镍镀层能否屏蔽焊点界面附近的磁场 | 第26-28页 |
3 电磁搅拌工艺的数值模拟 | 第28-38页 |
·UBM 或者焊盘镀层对磁力线分布影响的模拟 | 第28-34页 |
·焊料熔体中感生电流和电磁力分布的模拟 | 第34-36页 |
·电磁搅拌的线圈布置方式 | 第36-38页 |
4 工艺试验及分析 | 第38-43页 |
·试验方案设计 | 第38-39页 |
·结果分析与讨论 | 第39-43页 |
5 基于单片机的电磁搅拌试验装置的研制 | 第43-51页 |
·试验装置的总体设计 | 第44-46页 |
·线圈驱动电路的基本原理及其仿真 | 第46-48页 |
·试验装置的软件设计 | 第48-51页 |
6 全文总结 | 第51-54页 |
·论文主要结论 | 第51-53页 |
·工作建议 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-60页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第60页 |